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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光刻图案化的方法-CN201710344344.8在审
发明人：陈彦豪;赖韦翰;王建惟;林进祥 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-05-16 - 公布日： 2018-06-05 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明一些实施例提供提供光刻图案化的方法，包括形成光致抗蚀剂层于基板上，其中光致抗蚀剂层包含聚合物、光敏剂、与光酸产生剂，其中光酸产生剂包含化学键合至硫的第一苯环与第二苯环，第一苯环与第二苯环更化学键合在一起，以增加光酸产生剂的敏感度；对光致抗蚀剂层进行曝光工艺；以及显影光致抗蚀剂层以形成图案化的光致抗蚀剂层。本发明提供敏感度增加的光致抗蚀剂材料，可增加光致抗蚀剂材料的敏感度。
光致抗蚀剂层苯环光酸产生剂敏感度光致抗蚀剂材料光刻图案化学键合抗蚀剂层曝光工艺聚合物光敏剂图案化基板显影

[发明专利]树脂、光致抗蚀剂组合物和制造半导体器件的方法-CN202110475544.3在审
发明人：王筱姗;张庆裕;林进祥 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-04-29 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本申请涉及树脂、光致抗蚀剂组合物和制造半导体器件的方法。具体地，本文公开了一种用于制造半导体器件的方法，所述方法包括在基板上形成包含光致抗蚀剂组合物的光致抗蚀剂层。使所述光致抗蚀剂层选择性地暴露于光化辐射以形成潜在图案，并且通过将显影剂施加至所述经选择性暴露的光致抗蚀剂层来使所述潜在图案显影以形成图案化的光致抗蚀剂。所述光致抗蚀剂组合物包含光活性化合物以及包含自由基活性官能团和酸不稳定基团的树脂。
树脂光致抗蚀剂组合制造半导体器件方法

[发明专利]半导体器件的阱光致抗蚀剂图案及其形成方法-CN200610099506.8无效
发明人：金成茂 -专利权人：东部电子株式会社
申请日： 2006-07-26 - 公布日： 2007-01-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了一种半导体的阱光致抗蚀剂图案及其制造方法。该方法包括以下步骤：(a)在半导体衬底上形成牺牲氧化物层；(b)在该牺牲氧化物层上施加HDMS；(c)在该HMDS上施加光致抗蚀剂；(d)对该光致抗蚀剂进行软烘烤；(e)通过对在衬底上所传递的光的DOF(焦距深度)进行散焦，将光致抗蚀剂曝光；(f)对光致抗蚀剂进行曝光后烘烤；(g)对所曝光的光致抗蚀剂进行显影以形成阱图案；以及(h)对阱光致抗蚀剂图案进行硬烘烤。优选地，所述曝光通过光的正(+)散焦来执行。
半导体器件阱光致抗蚀剂图案及其形成方法

[发明专利]喷墨头、打印头及其制造方法-CN200610142557.4无效
发明人：朴炳夏;金南钧;河龙雄;朴用植 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2006-10-30 - 公布日： 2007-07-18 - 主分类号： B41J2/14 文献下载
摘要：一种喷墨头以及制造所述喷墨头的方法，所述喷墨头包括：具有提供墨水的歧管的衬底；由光致固化环氧树脂形成的室，所述室具有热源，并且形成暂时存储所述墨水的墨室；以及在所述室上由热固环氧树脂形成的，包括多个用来喷射所述墨水的喷嘴的喷嘴板
喷墨打印头及其制造方法

[实用新型]一种面板集成检测设备-CN202223083159.3有效
发明人：肖治祥;王宏丽;朱涛;叶坤 -专利权人：苏州精濑光电有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司
申请日： 2022-11-21 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G01R31/28 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种面板集成检测设备，其包括设置于隔振台上的集成电路检测装置和AOI检测装置，所述AOI检测装置包括光机安装架和光学检测模组，所述光机安装架和所述集成电路检测装置之间通过连接组件实现刚性固接本实用新型通过引入连接组件将光机安装架和集成电路检测装置连接为刚性整体，从而使得两者在外界干扰下始终保持一致的振幅，提高了设备的检测精度。
一种面板集成检测设备

[发明专利]平版印刷方法-CN201010253910.2有效
发明人： D·王;G·G·巴克利;T·A·埃斯戴尔;K·J·斯皮祖科;D·康 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司
申请日： 2010-06-08 - 公布日： 2011-01-12 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一方面，本发明的处理方法包括：在基底上应用光致抗蚀剂组合物；将所述光致抗蚀剂层在辐射下曝光激活光致抗蚀剂组合物；除去部分但非全部曝光的光致抗蚀剂层；和将处理后的光致抗蚀剂层显影得到光致抗蚀起伏图象。
平版印刷方法

[发明专利]去除光致抗蚀剂的方法及应用该方法的等离子体处理设备-CN200810226652.1无效
发明人：朱哲渊 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2008-11-19 - 公布日： 2010-06-16 - 主分类号： G03F7/36 文献下载
摘要：本发明提供一种去除光致抗蚀剂的方法，包括：100)借助于第一种工艺气体对硅片表面的光致抗蚀剂进行刻蚀，以便至少去除光致抗蚀剂上的硬化层；200)借助于第二种工艺气体继续对所述光致抗蚀剂进行刻蚀，以去除剩余的光致抗蚀剂此外，本发明还提供一种应用上述去除光致抗蚀剂的方法的等离子体处理设备。本发明提供的去除光致抗蚀剂的方法和等离子体处理设备能够快速均匀地去除硅片表面的光致抗蚀剂，并且可有效减小甚至避免对硅片表面的损伤，同时还具有提高生产效率和加工质量等的优点。
去除光致抗蚀剂方法应用等离子体处理设备

[发明专利]切割鳍状结构的方法-CN202110589682.4在审
发明人：黄伟豪;陈俊隆;廖琨垣;郭龙恩;许珈玮 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： H01L29/78 文献下载
摘要：首先，提供一光掩模，其中光掩模包含一蛇形图案。接着，形成一光致抗蚀剂层覆盖鳍状结构，其中鳍状结构位于一基底上。之后，进行曝光显影以于光致抗蚀剂层形成一光致抗蚀剂图案，其中光致抗蚀剂图案对应蛇形图案。而后，转移光致抗蚀剂图案并蚀刻鳍状结构的切割部分，以切割鳍状结构。
切割结构方法

[实用新型]一种LED及照明装置-CN201220289216.0有效
发明人：杨文华 -专利权人：深圳市瑞丰光电子股份有限公司
申请日： 2012-06-19 - 公布日： 2013-02-06 - 主分类号： H01L33/58 文献下载
摘要：本实用新型适用于照明技术领域，提供了一种LED及照明装置，所述LED包括基板及固设于所述基板的LED芯片，所述LED芯片由雾面透镜所封盖。本实用新型由雾面透镜封盖LED芯片，使得LED芯片发出的光于雾面透镜发生漫反射，而后透射，这样LED出光颜色一致，有助于提升照明效果。鉴于以上优点，本LED封装结构尤可用于大功率LED。
一种 led 照明装置

[发明专利]薄膜的光刻方法-CN200310119645.9有效
发明人：朴云用;白范基 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 1999-11-26 - 公布日： 2004-07-28 - 主分类号： H01L21/30 文献下载
摘要：本发明公开一种薄膜的光刻方法，包括如下步骤：在基板上形成至少一层薄膜；在所述薄膜上涂敷光致抗蚀层；利用至少一个具有至少三个不同透射量部分的光掩模，使所述光致抗蚀层曝光；使所述光致抗蚀层显影，从而根据不同位置而形成不同厚度光致抗蚀层图案；和对所述光致抗蚀层及薄膜同时进行蚀刻。
薄膜光刻方法

[发明专利]返工处理方法-CN200610116882.3有效
发明人：李建茹;宋铭峰 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2006-09-30 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：一种返工处理方法，其中，所述光致抗蚀剂层位于介质层表面；所述返工处理方法包括：确定需返工的光致抗蚀剂层；灰化处理需返工的光致抗蚀剂层；进行介质层表面剥除步骤；重新涂覆并图案化光致抗蚀剂层；对光致抗蚀剂层进行检测；对检测不合格的光致抗蚀剂层重复上述步骤；获得检测合格的光致抗蚀剂层。通过在移除光致抗蚀剂层后，增加一介质层表层剥除步骤，可去除介质表面变质的薄层，在光致抗蚀剂层返工后获得性质均匀的介质层表面，继而保证在后续刻蚀过程中介质层表面的刻蚀速率不被改变，进而不再形成刻蚀开路缺陷
返工处理方法

[发明专利]一种光固化3D打印的离型膜-CN202211496123.X有效
发明人：王文斌;熊杰 -专利权人：苏州博理新材料科技有限公司
申请日： 2022-11-28 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： B29C64/255 文献下载
摘要：本发明涉及一种光固化3D打印的离型膜，所述光固化3D打印的离型膜包括离型膜本体和光致变形材料区；所述光致变形材料区占所述离型膜本体表面面积的55‑75%；所述光致变形材料区包括阵列分布的光致变形材料子区；所述光致变形材料子区内设置有菱形中空区；所述菱形中空区的中空区域为离型膜本体，余下区域为光致变形材料。本发明提供的离型膜，通过在现有离型膜的表面设置特定的光致变形材料区，利用光致变形实现离型膜和树脂的脱离，同时借助特定设计的光致变形材料区参数，减少了光照变形后离型膜的恢复时间，提升了光固化3D打印的效率
一种光固化打印离型膜

[实用新型]按摩装置-CN202121174380.2有效
发明人：马龙全;王三军;赵玉坤;胡凯 -专利权人：广东诗奇制造有限公司
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： A61H23/02 文献下载
摘要：本实用新型公开一种按摩装置，其中，所述按摩装置包括：装置本体，所述装置本体具有面向按摩部位的近肤侧，所述装置本体上设置有安装腔、及与所述安装腔连通的光致口，所述光致口位于所述近肤侧；光源，所述光源安装在所述安装腔内；以及光致膜片，所述光致膜片安装于所述近肤侧，且所述光致膜片设于所述光致口处，所述光致膜片具有感光侧和按压侧，所述感光侧面向所述光源设置，以在所述光致膜片在被所述光源照射时向远离所述光源的方向凸出形变；本实用新型技术方案有利于消除机械致动的顿挫感，提高按压柔性和连续性，有利于提高按压舒适度。
按摩装置

[发明专利]修整光致抗蚀剂图案的方法-CN201010105786.5无效
发明人：林盈志;周珮玉;廖俊雄;冯郅文;张峰溢;蔡尚元 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2010-01-28 - 公布日： 2011-08-03 - 主分类号： G03F7/36 文献下载
摘要：本发明公开一种于修整光致抗蚀剂图案的方法，以氮气做为蚀刻气体，并且以适当的蚀刻速率修整光致抗蚀剂图案，其方法如下：首先提供一待蚀刻材料层覆有一图案化光致抗蚀剂层，然后进行一削除光致抗蚀剂制作工艺，以氮气修整图案化光致抗蚀剂层的边缘，最后，以修整后的图案化光致抗蚀剂层为掩模，蚀刻待蚀刻材料层。
修整光致抗蚀剂图案方法

[实用新型]一种纸制包装印刷品表面处理用光固装置-CN202020224519.9有效
发明人：张伟;王彦 -专利权人：天津中荣印刷科技有限公司
申请日： 2020-02-28 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： B41F23/04 文献下载
摘要：本实用新型是一种纸制包装印刷品表面处理用光固装置，包括光固箱，所述光固箱内顶部固定有光固紫外灯，所述光固紫外灯两侧设有可调节角度的聚光板，所述光固箱内底部在光固紫外灯下方设有光固平台，所述光固箱内在光固平台两侧设有静电吸尘板本实用新型可以根据需要光固的产品的大小来适当调整聚光板的开合角度来改变光固紫外灯的照射面积，便于更好的进行光固，光固箱内的灰尘能够由静电吸尘板和辅助吸尘板进行吸附，避免污染产品表面而影响产品质量。
一种包装印刷品表面处理用光装置

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