专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种用于接触孔图形设计的光学邻近修正的方法-CN201210398044.5有效
  • 王辉;王伟斌 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2012-10-18 - 2014-05-07 - G03F1/36
  • 本发明提供一种用于接触孔图形设计的光学邻近修正的方法,包括:提供具有接触孔图形的设计版图;对所述设计版图中的接触孔图形实施第一光学邻近修正;判断经过所述第一光学邻近修正后的接触孔图形是否满足掩膜规则检验的要求,如果不满足掩膜规则检验的要求,则对经过所述第一光学邻近修正后的接触孔图形实施第二光学邻近修正时,在经过所述第一光学邻近修正后的接触孔图形之间添加另一图形使两个邻近的接触孔图形相连接成为一图形单元;对所述图形单元进行光刻投影模拟根据本发明,对接触孔图形进行的光学邻近修正不会受到掩膜规则检验的限制,从而使修正后的接触孔图形能够完全补偿光刻模拟时光的干涉和衍射所引起的接触孔图形的变形。
  • 一种用于接触图形设计光学邻近修正方法
  • [发明专利]光学临近修正方法、装置及电子设备-CN202110754593.0有效
  • 王康;罗招龙;林建佑;李可玉;赵广 - 南京晶驱集成电路有限公司
  • 2021-07-05 - 2021-10-01 - G03F1/36
  • 本发明提供了一种光学临近修正方法、装置及电子设备。通过以比符合版图掩膜设计规则的第一掩膜规则值小很多的第二掩膜规则值对主图形进行光学临近修正,以使修正后的主图形的收敛度先符合设计要求;之后,再从所述修正后符合收敛度设计要求的主图形中找出不符合第一掩膜规则值的主图形组,并对主图形组中的主图形进行适应性调整,以使调整后的主图形既满足光刻工艺窗口的设计要求,又满足收敛度的设计要求,从而避免了由于掩膜规则值的原因,导致一些特征图形的光刻工艺窗口和收敛度无法兼顾的问题,进而有效的保证了一些特殊图形的收敛度问题,并进一步提升了OPC修正过程中的准确度,以及有效提升了产品良率,最终推进了研发进度。
  • 光学临近修正方法装置电子设备
  • [发明专利]一种图像增强处理方法、装置、设备及介质-CN202211203878.6在审
  • 郑凡;谭长兴;陈云;程梦 - 重庆港宇高科技开发有限公司
  • 2022-09-29 - 2023-01-31 - G06T5/40
  • 一种图像增强处理方法、装置、设备及介质,获取输入图像的原始直方图和原始直方图的参数信息,所述参数信息包括有效灰度级个数;对原始直方图进行修正,得到修正直方图,并获取修正直方图的参数信息,该参数信息包括修正直方图的有效灰度级个数;对原始直方图和修正直方图进行分析,确定修正直方图的映射范围;根据图像直方图和修正直方图的有效灰度个数,确定修正直方图的剪切系数;利用剪切系数,对修正直方图进行剪切处理,基于映射范围对剪切后的直方图进行均衡化处理,将处理后得到的映射关系矩阵作为直方图映射规则;基于直方图映射规则,对待处理图像进行图像增强处理,并予以输出。
  • 一种图像增强处理方法装置设备介质
  • [发明专利]飞镖游戏系统、飞镖板装置以及计算机可读存储介质-CN201510459603.2有效
  • 山本信 - 株式会社标活
  • 2015-07-30 - 2018-11-09 - A63B65/02
  • 本发明提供一种飞镖游戏系统,飞镖板装置与游戏推进装置分体设置,能够使飞镖板装置的结构简易,并且能够保证游戏推进装置中为了游戏的推进而接收的信号是来自正规的飞镖板装置的信号。飞镖板装置(10)的变换规则决定部(19)基于由飞镖游戏推进装置(50)指定、由用户输入到飞镖板装置(10)的密码(a、b、c、d),决定用于变换区段检测信号x的变换规则(y=(a+b+c+d)x)。飞镖游戏推进装置50的逆变换规则决定部(52)基于所指定的密码(a、b、c、d)决定用于将进行了变换的区段检测信号y复原为原来的区段检测信号x的逆变换规则(x=y/A)。
  • 飞镖游戏系统装置以及计算机程序产品
  • [发明专利]一种引入套刻误差的光刻工艺规则检查方法-CN201510460417.0有效
  • 张辰明;魏芳;朱骏;吕煜坤;张旭升 - 上海华力微电子有限公司
  • 2015-07-30 - 2019-07-19 - G03F1/84
  • 本发明公开了一种引入套刻误差的光刻工艺规则检查方法,包括定义一组涉及到多个层次的检查规则;导入相关层次,对光学临近效应修正后的版图进行模拟,得到一组模拟图形;进行无套刻精度误差条件下的光刻工艺规则检查;对模拟图形进行一系列几何变化,用来模拟光刻对准产生误差时所导致的套刻精度下降,利用一系列几何变化后的当层模拟图形连同相关层次进行光刻工艺规则检查;针对产生违反工艺规则的图形,对该位置重新进行光学临近效应修正;对重新进行光学临近效应修正后的当层模拟图形再次进行光刻工艺规则检查,直至确认所有工艺弱点得到修复,实现对光刻工艺规则检查方法的优化改善。
  • 一种引入误差光刻工艺规则检查方法
  • [发明专利]试验数据处理方法、系统和存储介质-CN202010604312.9在审
  • 张琦;斯夏依;赵运生 - 中国航发商用航空发动机有限责任公司
  • 2020-06-29 - 2022-01-14 - G06F11/07
  • 本公开的一种试验数据处理方法,包括:处理试验数据,获取试验数据处理结果;处理性能仿真模型模拟生成的、与试验数据对应的模拟数据,获取模拟数据处理结果;根据模拟数据处理结果确定是否修正数据处理规则库或模型;在确定需要修正数据处理规则库或性能仿真模型中的至少一项的情况下,修正并执行处理试验数据和处理模拟数据的操作,直至确定无需修正数据处理规则库和模型,确定试验数据处理结果为目标试验数据处理结果。通过这样的方法,能够减少人工参与,提高了数据处理的效率;利用对模型模拟数据的处理对规则和模型进行迭代修正,提高数据处理的准确度。
  • 试验数据处理方法系统存储介质
  • [发明专利]一种芯片设计版图优化方法及装置-CN202310736363.0在审
  • 陈板桥;丁明;陈泽阳 - 东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司
  • 2023-06-20 - 2023-09-19 - G03F1/36
  • 本发明提供的一种芯片设计版图优化方法,用于对设计版图内存在角对角规则的相邻图形进行优化修正,包括以下步骤:获取图形中角的顶点位置,并获得相邻图形的顶点之间的最短距离;基于预设角对角限制距离判断相邻图形之间是否存在角对角违规;若违规,则最短距离和角对角限制距离基于预设修正算法获得修正量;若不违规,则最短距离和角对角限制距离基于预设可修正余裕算法获得可修正余裕量;基于修正量或可修正余裕量对相邻图形进行修正,以对设计版图进行优化解决现有技术应对图形之间出现角对角规则进行修正效果差的问题。
  • 一种芯片设计版图优化方法装置

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