专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]屏幕-CN200880108636.0无效
  • 箕浦洁;佐藤英次;浅冈康 - 夏普株式会社
  • 2008-07-29 - 2010-08-18 - G03B21/60
  • 本发明的屏幕(100)包括:具有正面(112)和设置有立方角反射器阵列的背面(114)的回归反射层(110);由折射率比回归反射层(110)的材料形成的折射率层(120);和将从回归反射层(110)的正面(112)向回归反射层(110)入射并从背面(114)向折射率层(120)出射的光的至少一部分吸收的光吸收层(130)。在某实施方式中,光吸收层(130)的至少一部分隔着折射率层(120)与回归反射层(110)的立方角反射器阵列相对。
  • 屏幕
  • [发明专利]光记录介质和光记录介质的制造方法-CN201180039288.8无效
  • 柏木俊行;秋元义浩;齐藤公博;斋藤昭也 - 索尼公司
  • 2011-08-11 - 2013-04-24 - G11B7/24
  • 从轨迹线方向看交替的高反射率区域和反射率区域分别以连续状态在轨迹节距方向形成条码形反射图案,由此提供利用反射图案记录信息的记录区域(BCA)。在BCA中,反射率区域由多行凹坑构成。另外,高反射率区域和反射率区域形成为满足公式S+M/2≤0.6H,其中,从高反射率区域的反射束获取的回放信号的信号电平表示为“H”,从低反射率区域的反射束获取的回放信号的信号电平表示为“S”,从低反射率区域的反射束获取的回放信号的调制度表示为
  • 记录介质制造方法
  • [发明专利]用于检查半导体元件上的标记的方法和设备-CN200610093748.6无效
  • 蔡义和;李宗灵;张文达 - 维视机动私人有限公司
  • 2006-06-16 - 2007-04-04 - G01R31/26
  • 本发明涉及摄像机所获取的激光标记图像的方法和设备,以使具有浅蚀刻激光标记的图像高对比度和背景干扰成分,适于被元件检查系统检查。所述方法包括以下步骤:以相对于水平面的一角度照射所述半导体封装件表面,利用摄像机以大约所述角度获取从所述半导体封装件表面反射的图像。其它实施例中,所获取的图像是在与照射方向相对的方向上以角度反射的。所获取的图像还可以是在与照射方向相同的方向上以角度反射的。或者,所述图像是在由半导体封装件表面反射的照射光最明亮的角度上获取的。反射镜可被用于以角度将反射图像反射到安置在受检半导体元件正上方的摄像机。
  • 用于检查半导体元件标记方法设备
  • [发明专利]一种高压缩比的双向反射材质压缩表示模型、方法及装置-CN201911060168.0有效
  • 鲍虎军;王锐;郑濡樟;赵爽 - 浙江大学
  • 2019-11-01 - 2021-08-31 - G06F30/20
  • 本发明公开了一种高压缩比的双向反射材质压缩表示模型,包括编码器和解码器,所述编码器用于将双向反射材质信息压缩成维表示空间上的概率分布,其输入为由方向信息和对应的反射亮度信息组成的编码数据对,输出为维表示空间上的概率分布;所述解码器用于根据维表示空间上的定长向量解码生成反射亮度信息,其输入为方向信息和从概率分布上抽取的定长向量组成的解码数据对,输出为反射亮度信息。该模型能够实现将高维度的原始反射材质压缩为维度的表示空间,降低了原始反射材质占用内存,且维度的表示空间还能保证恢复精度。还公开了一种高压缩比的双向反射材质压缩表示方法和装置。
  • 一种压缩比双向反射材质压缩表示模型方法装置
  • [发明专利]光图像的增强方法、装置、电子设备及存储介质-CN202310028246.9在审
  • 李嘉锋;郝帅;况玲艳;张菁;卓力 - 北京工业大学
  • 2023-01-09 - 2023-05-09 - G06T5/00
  • 本发明提供一种光图像的增强方法、装置、电子设备及存储介质,该方法包括:获取待增强的光图像;将所述光图像输入至图像分解网络,得到所述光图像对应的第一反射率分量图及第一光照分量图;将所述第一反射率分量图及所述第一光照分量图输入至反射率调整网络,得到第二反射率分量图,并将所述第一光照分量图输入至光照调整网络,得到第二光照分量图;根据所述第二反射率分量图及所述第二光照分量图,得到所述光图像对应的增强图像。该方法利用图像分解网络,可准确分解光图像,并利用反射率调整网络和光照调整网络,以从粗到细的方式调整分解后的光图像,得到对应的反射率分量和光照分量,进而可有效提高获取增强图像的准确性。
  • 图像增强方法装置电子设备存储介质
  • [实用新型]多波长高反射-CN201220382655.6有效
  • 卜轶坤;吴冠伟;关振奋;张慎兴 - 晋谱(福建)光电科技有限公司
  • 2012-08-03 - 2013-02-13 - G02B5/08
  • 本实用新型公开了一种多波长高反射镜,包括基底、高反射率膜层、反射率膜层,所述高反射率膜层和反射率膜层依次交替层叠于所述基底上,其中,与基底贴合的膜层为高反射率膜层,所述高反射率膜层和反射率膜层的总层数为奇数;自与基底贴合的高反射率膜层起,层叠的各膜层厚度呈余弦函数规律变化。本实用新型的显著优点在于:1)无论是对于倍频反射还是无谐波关系的任意多个波长反射镜均适用;2)可采用较少的膜层数就实现任意多波长高反射率,物理厚度更薄,易于制备。
  • 波长反射
  • [发明专利]背光模组-CN201410589510.7有效
  • 马启唐;林苏逸;王明政;钟炜竣;杨承勋;黄建历;陈重廷 - 友达光电股份有限公司
  • 2014-10-28 - 2016-11-16 - G02F1/13357
  • 该背光模组包含载板、多个光源、至少一反射部及光学调控膜。载板具有承载面供承载光源;反射部形成于承载面上,并分别对应于外侧光源与载板侧边之间。反射部的反射率小于承载面的反射率。光学调控膜设置于光源上方,且每一反射部在光学调控膜上分别具有投影范围。在平行侧边延伸的方向上,投影范围较相邻的位置具有较低的单位出光穿透比率。本发明所提供的背光模组可以具有较佳的背光均匀度。
  • 背光模组
  • [实用新型]镜筒及光学成像镜头-CN202220807938.4有效
  • 常斌全;李辉龙;赵烈烽;戴付建 - 浙江舜宇光学有限公司
  • 2022-04-08 - 2022-09-06 - G02B7/02
  • 本实用新型涉及一种镜筒及光学成像镜头,包括镜筒主体,还包括用于收容镜片的收容腔,所述镜筒主体的内壁设置有至少一处反射部,所述反射部的反射率n1与所述镜筒的内壁其他位置的反射率n2,满足如下关系:n1<n2;所述镜筒内壁呈依次增大的台阶孔状,所述台阶孔包括水平部和倾斜部,所述反射部设置于所述倾斜部上。本实用新型的镜筒,能够有效地在反射部表面的杂散光线强度,从而减少镜筒的内壁上反射出的杂散光,提升镜头的成像品。
  • 光学成像镜头
  • [实用新型]一种用于光刻机对准曝光工序的物镜切换装置-CN201620109028.3有效
  • 沈显勇 - 合肥亚歌半导体科技合伙企业(有限合伙)
  • 2016-02-03 - 2016-08-31 - G03F7/20
  • 本实用新型涉及一种用于光刻机对准曝光工序的物镜切换装置,与现有技术相比解决了高、倍物镜切换不便的缺陷。本实用新型的高倍物镜系统安装在工作台上且位于左反射镜A和左反射镜B之间,右双面反射镜设有右反射镜A和右反射镜B,倍物镜系统安装在工作台上且位于右反射镜A和右反射镜B之间,运动滑台上安装有四面反射棱柱,四面反射棱柱上设有反射面A、反射面B、反射面C和反射面D,反射面A与左反射镜A相平行,反射面B与左反射镜B相平行,反射面C与右反射镜A相平行,反射面D与右反射镜B相平行。本实用新型能够方便地进行高倍物镜与倍物镜的切换,只进行导光而不进行分光,整个光路能量损失小。
  • 一种用于光刻对准曝光工序物镜切换装置

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