专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]翻盖式移动电话-CN200410057652.5有效
  • 梁景台 - LG电子株式会社
  • 2004-08-23 - 2005-02-23 - H04M1/02
  • 一种具有通过铰接连接部分互相相连的主体和翻盖的翻盖式移动电话,该铰接连接部分包括:第一空心柱体,用于以第一方向转动翻盖;第二空心柱体,连接到第一空心柱体的侧面,用于以第二方向转动翻盖;铰接,位于第一空心柱体内;以及转动,位于第二空心柱体内,转动铰接接合在一起,而且在转动以第一方向绕铰接转动预定角度范围内的一个角度时,该转动可以以第二方向转动。
  • 翻盖移动电话
  • [发明专利]后栅工艺中栅平坦化方法-CN202110568363.5在审
  • 王朝辉;何志斌 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2021-05-25 - 2021-09-14 - H01L21/28
  • 本发明公开了一种后栅工艺中栅平坦化方法,包括:步骤一、在半导体衬底表面形成栅材料层,进行光刻定义同时定义出栅的形成区域以及栅极内沟槽的形成区域;步骤二、对栅材料层进行刻蚀同时形成栅和栅极内沟槽;步骤、在栅极内沟槽的侧面形成研磨阻障层;步骤四、形成第零层层间膜;步骤五、进行化学机械研磨使第零层层间膜和栅表面相平以及将栅表面暴露,通过研磨阻障层并结合栅极内沟槽的布局实现对各栅的研磨负载的调节,化学机械研磨完成后各栅的高度均匀。本发明能使不同尺寸的栅的研磨负载均匀,栅内部的高度均匀性以及各不同尺寸的栅的高度均匀性都得到提高,能使器件的性能稳定并且能提高器件的可靠性。
  • 工艺中伪栅平坦方法
  • [发明专利]一种固体充填采煤工作面分层保留顶方法-CN201410483835.7有效
  • 张吉雄;郭帅;高瑞;周楠;姜海强 - 中国矿业大学
  • 2014-09-19 - 2015-01-07 - E21C41/16
  • 本发明公开的一种固体充填采煤工作面分层保留顶方法,包括以下步骤:(一)保留顶前,对顶板进行加强支护,(二)根据顶的岩性、厚度及冒落情况,对顶进行分层,()对第一分层顶边缘区域进行加固,(四)将支架逐步调整到第一分层顶下方,并对第一分层顶进行支护,(五)工作面稳定后,继续调整支架,完成其它分层顶的保留。在整个分层保留顶过程中,保证采空区的充填质量,将采空区充满充实。本方法简单安全可靠,可使工作面快速地由采顶开采阶段过渡到留顶开采的正常阶段,同时可以降低原煤含矸率,提高煤炭资源的采出率,为我国类似条件下留顶开采提供了一种切实有效、经济实用的技术方案。
  • 一种固体充填采煤工作面分层保留方法
  • [实用新型]全自动微型点钞鉴-CN94244224.5无效
  • 陈呈胜;汪勇;王阳 - 煤炭科学研究总院杭州环境保护研究所
  • 1994-11-05 - 1996-02-21 - G07D7/00
  • 本实用新型属于一种点钞鉴机,包括上盖、底座、轴承、出钞皮带轮、皮带、捻钞、捻钞皮带轮、五指片、阻力橡皮、电机、捻钞调节螺丝、滑钞板、紫光灯管、硅光伏探测器、出钞、计数传感器、出钞轮、控制及鉴电路、计数电路,在滑钞板下部对应处装有控制红外探头,在上盖前部安装鉴指示、报警指示、复位按钮、清零按钮和数码管,在底座内装有滑动接钞抽屉。该机适用于人民币、增值税发票等票证的快速点数和鉴
  • 全自动微型点钞鉴伪机
  • [发明专利]基于弱监督的目标检测模型训练方法及装置-CN202211734860.9在审
  • 温程璐;卢宇航;王程;范晓亮 - 厦门大学
  • 2022-12-30 - 2023-05-09 - G06V10/82
  • 本发明公开了一种基于弱监督的目标检测模型训练方法及装置,其中方法包括:获取目标环境下的原始维点云数据和部分标记的维点云数据;预设多个锚点框,并根据所述多个锚点框对应的点云密度进行筛选以得到对应的第一候选框;对所述对应的第一候选框进行动态调整,以便对所述对应的第一候选框进行筛选,以得到对应的弱标签;对所述原始维点云数据和所述部分标记的维点云数据进行筛选处理,以得到对应的第二候选框,并根据真实标记框进行标签提纯,以得到强标签;根据所述弱标签和所述强标签对预先设置的神经网络进行训练,以得到训练好的目标检测模型,从而减少了人力和时间成本。
  • 基于监督目标检测模型训练方法装置
  • [发明专利]存储单元及其形成方法-CN201610079607.2有效
  • 洪波;张帅 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
  • 2016-02-03 - 2019-09-27 - H01L27/11519
  • 一种存储单元及其形成方法,形成方法包括:提供衬底,衬底内具有阱区;在衬底的阱区表面形成分立的选择栅结构、浮栅结构和栅结构;以选择栅结构、浮栅结构和栅结构为掩膜,在衬底的阱区内形成第一轻掺杂区、第二轻掺杂区和第轻掺杂区,第一轻掺杂区和第二轻掺杂区位于选择栅结构两侧,且第二轻掺杂区位于相邻选择栅结构和浮栅结构之间,第轻掺杂区位于相邻浮栅结构和栅结构之间;之后,在选择栅结构、浮栅结构和栅结构的侧壁表面以及部分衬底表面形成侧墙;以浮栅结构、栅结构和侧墙为掩膜,在第轻掺杂区内形成源区,第轻掺杂区包围源区。
  • 存储单元及其形成方法
  • [发明专利]带残余频偏的脉冲成形DS-CDMA信号码序列估计-CN202210267096.2在审
  • 张天骐;陈显露;张刚;王晓烨;孟莹 - 重庆邮电大学
  • 2022-03-18 - 2023-09-22 - H04B1/7073
  • 本发明涉及一种带残余频偏的脉冲成形DS‑CDMA信号码序列盲估计方法,属于信号处理领域。本发明研究了一种基于张量分解和全数字锁相环的带残余频偏的脉冲成形DS‑CDMA信号码序列多通道盲估计方法。通过多接收通道接收信号,再将其等效表示为阶张量模型,然后利用交替最小二乘投影算法求解阶张量CP分解的码序列因子矩阵,利用全数字锁相环消除码序列因子矩阵中的残余频偏,最后进行抽样判决即可得到每个用户码序列的估计仿真结果表明,本方法的码序列估计性能与用户数、接收通道数和信息比特数等因素有关,在接收通道数为10,用户数为8,信息比特数为2000,信噪比大于等于‑7dB时,码序列估计的误码率低于1%。
  • 残余脉冲成形dscdma信号序列估计
  • [发明专利]一种基于维区别性特征表示的低剂量CT图像分解方法-CN201510590901.5有效
  • 陈阳;刘进;罗立民;李松毅;鲍旭东 - 东南大学
  • 2015-09-16 - 2018-04-24 - G06T7/00
  • 本发明公开了一种基于维区别性特征表示的低剂量CT图像分解方法,首先对体模进行扫描,获得一组对应的低剂量和正常剂量下体模CT图像;之后通过选取正常剂量的体模CT图像中的特征块组成特征字典,通过将低剂量和正常剂量体模CT图像相减得到低剂量下的噪声影图像,选取噪声影图像中的特征块组成噪声影字典;最后利用特征字典和噪声影字典组成的维区别性字典来表示临床低剂量CT图像,得到特征字典表示的特征图像和噪声影字典表示的噪声影图像本发明可以将低剂量CT图像中的噪声及星条状影和特征结构成分有效的分离,满足临床分析和诊断的质量要求,提高低剂量CT图像使用效率。
  • 一种基于三维区别特征表示剂量ct图像分解方法
  • [发明专利]喷墨头以及喷墨记录装置-CN201310667552.3有效
  • 乘越隆 - 株式会社东芝;东芝泰格有限公司
  • 2013-12-10 - 2014-09-10 - B41J2/14
  • 一个实施方式涉及的喷墨头包括压电部件、第一及第二侧壁、第一至第电极。在上述压电部件交替配置驱动流路和流路。上述第一侧壁位于上述驱动流路和上述流路之间,形成上述驱动流路以及上述流路的第一侧面。上述第二侧壁位于上述驱动流路和上述流路之间,形成上述驱动流路以及上述流路的第二侧面。上述第一电极形成于上述驱动流路的上述第一以及第二侧面。上述第二电极形成于上述流路的第一侧面,如果施加电压,则使上述第一侧壁变形。上述第电极与上述第二电极分离,形成于上述流路的第二侧面,如果施加电压则使上述第二侧壁变形。
  • 喷墨以及记录装置
  • [发明专利]布线结构及其形成方法和形成掩模布局的方法-CN201611115396.X有效
  • 吴寅旭;李钟弦;黄盛昱 - 三星电子株式会社
  • 2016-12-07 - 2021-10-26 - H01L21/027
  • 所述形成掩模布局的方法包括:形成包括下布线结构图案和下布线结构图案的第一掩模的布局。形成与第一掩模重叠并且包括上布线结构图案和上布线结构图案的第二掩模的布局。形成包括第一过孔结构图案和第一过孔结构图案的第掩模的布局。形成包括第二过孔结构图案和第二过孔结构图案的第四掩模的布局。第二过孔结构图案可与下布线结构图案和上布线结构图案共同地重叠,并且第二过孔结构图案可与下布线结构图案和上布线结构图案共同地重叠。第四掩模可与第掩模重叠。
  • 布线结构及其形成方法布局

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