专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]测试图案、测试方法以及计算机实现方法-CN201611062754.5有效
  • 黄盛昱;李钟弦;姜旻秀 - 三星电子株式会社
  • 2016-11-25 - 2022-01-11 - H01L23/544
  • 一种测试图案包括:第一线图案,设置在第一水平,具有通过第一间隔而间隔开的不连续的区域,具有第一宽度,并在第一方向上延伸。测试图案还包括:设置在第二水平并在第一方向上延伸的连接线图案;以及设置在第二水平、从连接线图案分支、具有第二宽度并在垂直于第一方向的第二方向上延伸的多个第二线图案。测试图案还包括多个通路图案,该多个通路图案设置在第三水平、具有第三宽度并形成为至少部分地交叠具有第一线图案的第一宽度和第二线图案的第二宽度的交叉区域。第一焊盘与第一线图案相连。第二焊盘与连接线图案相连。
  • 测试图案方法以及计算机实现
  • [发明专利]布线结构及其形成方法和形成掩模布局的方法-CN201611115396.X有效
  • 吴寅旭;李钟弦;黄盛昱 - 三星电子株式会社
  • 2016-12-07 - 2021-10-26 - H01L21/027
  • 本发明提供了一种形成掩模布局的方法、一种形成布线结构的方法和一种布线结构。所述形成掩模布局的方法包括:形成包括下布线结构图案和伪下布线结构图案的第一掩模的布局。形成与第一掩模重叠并且包括上布线结构图案和伪上布线结构图案的第二掩模的布局。形成包括第一过孔结构图案和第一伪过孔结构图案的第三掩模的布局。形成包括第二过孔结构图案和第二伪过孔结构图案的第四掩模的布局。第二过孔结构图案可与下布线结构图案和上布线结构图案共同地重叠,并且第二伪过孔结构图案可与伪下布线结构图案和伪上布线结构图案共同地重叠。第四掩模可与第三掩模重叠。
  • 布线结构及其形成方法布局
  • [发明专利]集成电路装置和电子系统-CN201710428062.6有效
  • 朴祥用;张在爀;李艺瑟;俞泰善;黄盛昱 - 三星电子株式会社
  • 2017-06-08 - 2021-08-13 - G06F1/3237
  • 本发明提供一种集成电路装置和包含所述集成电路装置的电子系统。所述集成电路装置可包含:中央处理单元,其经配置以在多个模式中的一个模式中操作;以及唤醒控制电路,其经配置以控制所述中央处理单元。所述唤醒控制电路可包含:时钟产生器,其经配置以产生内部时钟信号;多路复用器,其经配置以从外部信号和所述内部时钟信号当中选择信号且向所述中央处理单元提供所选信号作为操作时钟信号;以及控制器,其经配置以基于所述外部信号而控制所述中央处理单元和所述时钟产生器。本发明的集成电路装置能够在低功率模式中无参考时钟信号而唤醒,以减少集成电路装置的功耗。
  • 集成电路装置电子系统

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