[发明专利]一种纵长形反应腔体及其化学气相沉积装置在审
申请号: | 202210349977.9 | 申请日: | 2022-04-02 |
公开(公告)号: | CN116926506A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 周楚秦;张海龙;庞云玲;姜勇 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/44;C30B25/08;C30B25/14 |
代理公司: | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人: | 南慧荣;徐雯琼 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了一种纵长形反应腔体及其化学气相沉积装置,该纵长形反应腔体包含:纵长方向延伸的顶壁、底壁和侧壁围绕而成的腔体,腔体两端分别为进气开口和排气开口;腔体内部空间包括进气区域、排气区域和反应区域,各区域沿纵长方向排列;反应区域下方的底壁上设置有延伸管,旋转轴从延伸管伸入反应区域以支撑托盘和基片,使得基片在反应区域中旋转;反应腔体两个侧壁内表面竖直且互相平行;顶壁在反应区域向上拱起,使得基片上沿纵长方向上分布的多个点到顶壁的距离不同。其优点是:该纵长形反应腔体的顶壁在反应区域处向上拱起,以使其具有较高的机械强度,从而具有更强的承压能力,同时基片上方的气体流场较为稳定,保证了薄膜沉积的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 纵长形 反应 及其 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的