[发明专利]用于真空封装的交叉在审

专利信息
申请号: 202180027549.8 申请日: 2021-02-19
公开(公告)号: CN115362125A 公开(公告)日: 2022-11-18
发明(设计)人: J·洪;T·常;S·安德鲁斯;J·波斯;马嘉伟 申请(专利权)人: 曜晶科技股份有限公司
主分类号: B81B7/00 分类号: B81B7/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 徐倩;黄嵩泉
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在一些实施例中,公开了机电系统和制造该机电系统的方法,机电系统包括:半导体层,半导体层具有平面表面,并且包括导电区域和相邻的非导电区域;以及施加在平面表面上的气密密封。在一些实施例中,公开了机电设备,该机电设备包括第一平面半导体层和第二平面半导体层。半导体层中的每一个包括导电区域,并且来自所述层中的每一个层的至少一个导电区域彼此电耦合。还公开了制造该机电设备的方法。
搜索关键词: 用于 真空 封装 交叉
【主权项】:
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