[发明专利]一种往复旋转升降的气相沉积设备有效
| 申请号： | 202111330341.1 | 申请日： | 2021-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN113774352B | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 宋维聪;解文骏;崔世甲 | 申请（专利权）人： | 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C16/458;C23C16/44;C23C14/56 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 刘星 |
| 地址： | 201201 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种往复旋转升降的气相沉积设备，包括气相沉积腔体、基座台、基座轴、可伸缩组件、被动升降旋转部件、旋转机构及升降机构，其中，旋转机构与可伸缩组件固定连接以驱动可伸缩组件作往复旋转运动，进而依次带动基座台、基座轴及被动升降旋转部件作往复旋转运动；升降机构与被动升降旋转部件旋转式滑动连接以驱动被动升降旋转部件作升降运动，进而带动基座轴及基座台作升降运动，其中，可伸缩组件随基座台的上升而伸长，随基座台的下降而缩短。本发明可在同时满足晶圆基座升降与旋转协同工作的同时互不影响，往复式旋转可防止电气线缠绕损毁，设备可达到绝对的物理超高真空状态，并可防止强磁场对腔体内部沉积环境和外界环境的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 往复 旋转 升降 沉积 设备 | ||
【主权项】：
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