[发明专利]光致抗蚀剂组合物及图案形成方法在审
| 申请号： | 202111260293.3 | 申请日： | 2021-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN114442427A | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 侯希森;李明琦;J·凯茨;T·马兰戈尼;P·特雷夫纳斯三世 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 乐洪咏;陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 光致抗蚀剂组合物包含：酸敏感聚合物，其包含由包含酸可分解基团的第一可自由基聚合单体形成的第一重复单元和由包含羧酸基团的第二可自由基聚合单体形成的第二重复单元；包含两个或更多个烯醇醚基团的化合物，其中所述化合物不同于所述酸敏感聚合物；包含碱不稳定基团的材料；光酸产生剂；以及溶剂。所述光致抗蚀剂组合物和使用所述光致抗蚀剂组合物的图案形成方法特别地可用于在半导体制造工业中形成精细光刻图案。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗门哈斯电子材料有限责任公司，未经罗门哈斯电子材料有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111260293.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：存储器模块及其操作方法
- 下一篇：一种降解BTK的氘代物及其在医药上的应用
