[发明专利]基板处理方法和基板处理装置在审
| 申请号： | 202111138400.5 | 申请日： | 2021-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN114300332A | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 内藤启;三好秀典;土场重树 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够适当地降低等离子体处理中的基板背面的金属污染。基板处理装置具有：处理容器，在所述处理容器的内部对基板进行处理；等离子体生成空间，其形成于所述处理容器的内部；处理空间，其经由分隔板而与所述等离子体生成空间连通；载置台，其设置于所述处理空间的内部，在所述载置台的上表面载置基板；以及升降机构，其使基板在所述载置台上进行升降，其中，在所述处理空间中的基板的等离子体处理中，使用所述升降机构使基板进行升降，来使该等离子体处理中的基板发生电位变化。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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