[发明专利]微纳结构制作方法及微纳结构制作装置在审
| 申请号： | 202110414515.6 | 申请日： | 2021-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN113189840A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 陈佛奎;林慧;马翠;赖厚湖;余明;朱挥 | 申请（专利权）人： | 深圳先进技术研究院 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人： | 张全文 |
| 地址： | 518055 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于微纳结构制作技术领域，尤其涉及一种微纳结构制作方法及微纳结构制作装置，其中，微纳结构制作方法包括：在透光坯料的一侧表面粘附有一层液态并为透光材料且不会在重力作用下流离透光坯料的功能扩展料；将印章结构压印功能扩展料，并使功能扩展料呈现出的形状为微纳结构；使功能扩展料固化，并附着于透光坯料，其中，透光坯料与功能扩展料共同构成透光件；使印章结构与功能扩展料分离。本发明提高了在透光件的表面制出微纳结构的制作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 制作方法 制作 装置 | ||
【主权项】：
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