[发明专利]带浮栅的分离栅平面型MOSFET器件有效
| 申请号： | 202110403506.7 | 申请日： | 2021-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN112802906B | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 涂俊杰;顾航;高巍;戴茂州 | 申请（专利权）人： | 成都蓉矽半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/788 | 分类号： | H01L29/788;H01L29/423 |
| 代理公司： | 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 | 代理人： | 敖欢 |
| 地址： | 610041 四川省成都市中国（四川）自由贸易*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种带浮栅的分离栅平面型MOSFET器件，包括重掺杂第一导电类型衬底、第一导电类型漂移区、第二导电类型半导体阱区、重掺杂第一导电类型源区、重掺杂第二导电类型欧姆接触区、多晶硅栅电极、第一介质层、多晶硅浮栅、第二介质层、源极金属、第三介质层；本发明在常规分离栅平面型VDMOS的两块分离栅之间加入了一块浮空栅，浮空栅的存在能够降低分离栅尖角处介质层内电场强度，提高器件的可靠性，同时浮空栅还能起到浮空场板的作用，降低基区‑漂移区PN结处的电场强度，增大器件击穿电压。相比于常规VDMOS来说，本发明中的器件结构兼具较好的静态特性和动态特性。 | ||
| 搜索关键词： | 带浮栅 分离 平面 mosfet 器件 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都蓉矽半导体有限公司，未经成都蓉矽半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110403506.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
