[发明专利]图案结构制作方法和掩膜结构有效
| 申请号： | 202110323735.8 | 申请日： | 2021-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN113073292B | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | 苏圣勋;刘强;刘亚伟;杜哲 | 申请（专利权）人： | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/14;C23C14/24 |
| 代理公司： | 成都极刻智慧知识产权代理事务所(普通合伙) 51310 | 代理人： | 宋江 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供的图案结构制作方法和掩膜结构，涉及金属图案制作技术领域。在本申请中，首先，提供一掩膜结构，其中，掩膜结构包括第一基板和金属抑制结构，第一基板包括开口区域和非开口区域，金属抑制结构用于抑制金属材料的附着。其次，在第一基板远离金属抑制结构的一侧形成第二基板。然后，通过开口区域在第二基板靠近金属抑制结构的一侧形成金属结构，最后，分离出第二基板和金属结构，得到目标结构。基于上述方法，可以提高掩膜结构的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 结构 制作方法 膜结构 | ||
【主权项】：
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