[发明专利]一种薄膜晶体管及其制备方法、显示基板、显示装置在审
| 申请号： | 202110268983.7 | 申请日： | 2021-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN113054035A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 朱磊;李志勇;杨润洲;胡伟;税守坚;薛锐;周宇;王春雷 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L27/12;H01L21/336 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 解婷婷;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种薄膜晶体管及其制备方法、显示基板、显示装置，所述薄膜晶体管包括设置在基底上的有源层、栅电极、源电极、漏电极、载流子注入极，所述有源层包括源极区、漏极区、沟道区和载流子注入区，所述源电极电连接到所述源极区，所述漏电极电连接到所述漏极区，所述载流子注入极电连接到所述载流子注入区，所述载流子注入区与所述源极区、漏极区为不同极性。本公开实施例提供的薄膜晶体管，通过载流子注入区在沟道注入载流子，抑制器件退化，提高器件使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜晶体管 及其 制备 方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】：
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