[发明专利]光栅基板表面光刻胶涂层在线扫描曝光预处理装置及方法有效
| 申请号： | 202110184852.0 | 申请日： | 2021-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN112764327B | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 曹红超;晋云霞;邵建达;孔钒宇;张益彬;王勇禄;汪瑞;王云坤 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种双光束干涉曝光系统中光栅基板表面光刻胶涂层在线扫描曝光预处理装置，包括：连续紫外激光光源，用于对光栅基板表面光刻胶涂层进行曝光；双光束干涉曝光系统；干涉场扫描测量系统，用于对干涉曝光场的强度分布进行二维扫描测量；扫描曝光预处理系统，将来自连续紫外激光光源的激光光束调制为具有一定空间强度分布和一定宽度的线激光束，并辐照在待处理光栅基板涂覆光刻胶的光刻胶面上。通过控制空间光调制器输出强度分布和一维位移台扫描速度实现光刻胶纳米涂层不同位置、不同曝光剂量的预处理。本发明解决了双光束干涉曝光技术制备衍射光栅中因干涉光束强度分布不均匀导致的光栅掩膜不均匀性的技术难关。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 表面 光刻 涂层 在线 扫描 曝光 预处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
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