[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法在审
| 申请号： | 202110067300.1 | 申请日： | 2021-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN113192817A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 舆水地盐 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在公开的等离子体处理装置中，在第1期间供给用于生成等离子体的高频电力，在第2期间设定为高频电力的功率电平减少的功率电平。在第2期间，偏置电力施加到基板支承器的下部电极。偏置电力在由第2频率限定的各周期内使基板的电位变动。在第2期间，直流电压施加到上部电极。直流电压设定为在由第2频率限定的各周期内，第1副期间中的其极性为负，且第1副期间中的其绝对值大于第2副期间中的其绝对值。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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