[发明专利]薄膜沉积装置有效
| 申请号： | 202110014296.2 | 申请日： | 2021-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN112813384B | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 林俊成 | 申请（专利权）人： | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/50;C23C16/04;C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 361101 福建省厦门市厦门火*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明是一种薄膜沉积装置，其具有腔体、载台、至少一挡件与至少一遮蔽件。所述载台用以承载基板，而挡件则防止载台上的基板的背镀。所述遮蔽件与挡件直接或间接卡合，且遮蔽件高于挡件并用以遮蔽挡件，以代替挡件盛接部分未沉积于基板的靶材原子。如此，可避免靶材原子沉积于挡件并形成薄膜，进而防止受热而流动的薄膜自挡件流动到挡件与基板的接触处所造成的黏片问题。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 装置 | ||
【主权项】：
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