[发明专利]用于物理气相沉积的优化坩埚组件和方法在审
| 申请号： | 202080086423.3 | 申请日： | 2020-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN114830288A | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | P·帕格农 | 申请（专利权）人： | 依视路国际公司 |
| 主分类号： | H01J37/30 | 分类号： | H01J37/30;H01J37/20;H01J37/305;C23C14/24;C23C14/30 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘敏;雷明 |
| 地址： | 法国沙*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于在表面上的物理气相沉积的坩埚组件，该坩埚组件包括：‑底座(22)，该底座用于支承和驱动坩埚(18)围绕旋转轴线(A)旋转，该底座包括具有第一对准凹凸部(30)的底座上表面(34)，‑坩埚(18)，该坩埚包括：‑至少一个空腔(24)，该至少一个空腔相对于旋转轴线(A)设置在坩埚(18)的外围区域(38)处，‑坩埚底表面(25)，该坩埚底表面旨在接触底座(22)的底座上表面(34)，该坩埚底表面(25)具有相对于第一对准凹凸部(30)为互补形状的第二对准凹凸部(32)，第二对准凹凸部(32)相对于旋转轴线(A)设置在坩埚(18)的中心区域(36)处。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 物理 沉积 优化 坩埚 组件 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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