[发明专利]感光化射线性或放射线性树脂组合物、图案形成方法、抗蚀剂膜及电子器件的制造方法在审
| 申请号： | 202080058597.9 | 申请日： | 2020-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN114270264A | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 小岛雅史;牛山爱菜;后藤研由;白川三千纮;加藤启太;丸茂和博;冈宏哲 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/038;G03F7/004;G03F7/09;G03F7/00;C07C311/51;C07C309/06;C07C309/17;C07C309/12;C07C311/14;C07C311/48;C07C381/12 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种即使在长期保存的情况下也可得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。上述感光化射线性或放射线性树脂组合物含有酸分解性树脂及特定化合物，特定化合物具有2个以上的阳离子部位及与阳离子部位相同数量的阴离子部位，阳离子部位中的至少1个具有由通式(I)表示的基团。 | ||
| 搜索关键词： | 感光 射线 放射 线性 树脂 组合 图案 形成 方法 抗蚀剂膜 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
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- 一种铜mesh正性光阻蚀刻方法-202310167359.7
- 朴成珉;王福来 - 安徽精卓光显技术有限责任公司
- 2023-02-27 - 2023-06-27 - G03F7/039
- 本发明公开了一种铜mesh正性光阻蚀刻方法，属于蚀刻领域，包括以下步骤：涂胶，在双面铜膜表面涂布正性光刻胶；前烘，在预设的温度与时间下，使正性光刻胶膜里面的溶剂充分地逸出来，使正性光刻胶膜干燥；曝光，利用光照将掩模版上的图形经过光学系统后投影到正性光刻胶上，实现图形转移；显影，用化学显影液溶解由曝光造成的正性光刻胶的可溶解区域；刻蚀，以偏中性温和蚀刻液通过湿法刻蚀工艺进行光刻腐蚀；去胶，将双面铜膜表面的正性光刻胶去除。本发明，在湿法刻蚀工艺中引入正性光刻胶，能够做出更细线宽、更平滑线边缘及线宽线距均匀性更佳的线路，从而满足更高的可视区透光率及功能可靠性更高的产品。
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