[发明专利]校准系统及描绘装置在审
| 申请号： | 202080040472.3 | 申请日： | 2020-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN113906349A | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | 菅原雅史 | 申请（专利权）人： | 英视股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/24 | 分类号： | G03F7/24 |
| 代理公司： | 北京天达共和律师事务所 11798 | 代理人： | 关刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够在对于细长片状的基板形成连续的图案的情况下，随时进行被照射到基板的曝光用的光束的校准的校准系统等。校准系统包括：光学系统，其被设置为可相对于从曝光头射出并入射到基板的曝光面的光束的光路进行插拔，并在被插入到该光路将光束向与该光路不同的方向引导；移动机构，其将该光学系统相对于上述光路进行插拔；以及光传感器，其具有在光学系统被插入到上述光路时接收由光学系统引导的光束的受光面，对入射到该受光面的光束在该受光面中的照射位置及照射强度进行检测，并输出检测信号。 | ||
| 搜索关键词： | 校准 系统 描绘 装置 | ||
【主权项】：
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- 提供一种能够以高生产性来生产高质量基板的基板处理装置、器件制造方法以及光罩。具备：光罩支承部件，其在照明区域内以沿着按规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式支承光罩的图案；基板支承部件，其在投影区域内以沿着规定的第二面的方式支承所述基板；以及驱动机构，其以使光罩的图案向规定的扫描曝光方向移动的方式使光罩支承部件旋转，且以使基板向扫描曝光方向移动的方式使基板支承部件移动，光罩支承部件在将第一面的直径设为φ、将第一面在与扫描曝光方向正交的方向上的长度设为L的情况下，满足1.3≤L/φ≤3.8。
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- 具有：第一支承构件，其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，并且使第二支承构件移动，使光罩和基板在扫描曝光方向上移动，投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束，在规定的投影像面上形成图案的像，移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度，使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。
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