[发明专利]一种加工制作PDMS微流控芯片中对准曝光系统的对准标记设计有效
| 申请号： | 202011578147.0 | 申请日： | 2020-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN112882358B | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | 赵幸福;朱海燕;张迎洁;印唐臣;孙逸凡;王天伦;杨佳铭 | 申请（专利权）人： | 南通大学 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 许洁 |
| 地址： | 226000*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种加工制作PDMS微流控芯片中对准曝光系统的对准标记设计，本发明的对准标记将复杂高难度的对准工艺拆分成粗对准与精对准两步，降低了难度，又由于微流控芯片加工制作对精对准要求不高，同时本工艺又能降低粗对准难度，所以本方法较适合微流控芯片加工，能够节省时间提高效率，提高产品的合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 加工 制作 pdms 微流控 芯片 对准 曝光 系统 标记 设计 | ||
【主权项】：
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