[发明专利]一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法在审

专利信息
申请号: 202011544020.7 申请日: 2020-12-24
公开(公告)号: CN112501592A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 谢雄星;刘新柱;戴秀海;王德智;赵磊 申请(专利权)人: 光驰科技(上海)有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/52
代理公司: 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 代理人: 周宇凡
地址: 200444 上海市宝*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法,通过对控制原子层沉积镀膜设备成膜工艺的工艺文件进行制作实现灵活工艺控制,包括如下步骤:通过工艺文本文件方式记录工艺信息,工艺信息可通过修改工艺文本文件内的自定义文本进行调整;通过编译器对工艺文本文件进行编译,将包含工艺信息的工艺文本文件转换为符合控制器程序定义的规则文件;通过控制器识别处理规则文件并以此对原子层沉积镀膜设备的工作状态进行控制,使其以规则文件内所包含的工艺信息进行执行。本发明的优点是:工艺人员直接修改工艺文件,无需修改控制程序,杜绝沟通过程中产生的错误隐患,省去控制程序设计及测试时间,提升工艺开发效率。
搜索关键词: 一种 用于 原子 沉积 镀膜 设备 灵活 工艺 控制 实现 方法
【主权项】:
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