[发明专利]一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法在审
申请号: | 202011544020.7 | 申请日: | 2020-12-24 |
公开(公告)号: | CN112501592A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 谢雄星;刘新柱;戴秀海;王德智;赵磊 | 申请(专利权)人: | 光驰科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人: | 周宇凡 |
地址: | 200444 上海市宝*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于原子层沉积镀膜设备灵活工艺控制的实现方法,通过对控制原子层沉积镀膜设备成膜工艺的工艺文件进行制作实现灵活工艺控制,包括如下步骤:通过工艺文本文件方式记录工艺信息,工艺信息可通过修改工艺文本文件内的自定义文本进行调整;通过编译器对工艺文本文件进行编译,将包含工艺信息的工艺文本文件转换为符合控制器程序定义的规则文件;通过控制器识别处理规则文件并以此对原子层沉积镀膜设备的工作状态进行控制,使其以规则文件内所包含的工艺信息进行执行。本发明的优点是:工艺人员直接修改工艺文件,无需修改控制程序,杜绝沟通过程中产生的错误隐患,省去控制程序设计及测试时间,提升工艺开发效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 原子 沉积 镀膜 设备 灵活 工艺 控制 实现 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的