[实用新型]电子设备外壳纳米光学连续镀膜生产线有效
申请号: | 202022067108.6 | 申请日: | 2020-09-18 |
公开(公告)号: | CN213142180U | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 王建峰 | 申请(专利权)人: | 深圳市嘉德真空光电有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56 |
代理公司: | 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 | 代理人: | 郑学伟;叶利军 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙华*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种电子设备外壳纳米光学连续镀膜生产线,包括第一镀膜真空箱、第一镀膜机组、第二镀膜机组、第二镀膜真空箱、第三镀膜机组及第四镀膜机组,第一镀膜真空箱包括第一镀膜真空室及第二镀膜真空室,第二镀膜真空室与第一镀膜真空室相连通;第一镀膜机组组配置在第一镀膜真空室内;第二镀膜机组配置在第二镀膜真空室内;第二镀膜真空箱包括第三镀膜真空室及第四镀膜真空室,第四镀膜真空室与第三镀膜真空室相连通;第三镀膜机组配置在第三镀膜真空室内;第四镀膜机组配置在第四镀膜真空室内;气氛隔离箱连接在第一镀膜真空箱和第二镀膜真空箱之间,气氛隔离箱与第二镀膜真空箱之间。本实用新型可以实现多层膜结构的连续镀膜,效率高。 | ||
搜索关键词: | 电子设备 外壳 纳米 光学 连续 镀膜 生产线 | ||
【主权项】:
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