[发明专利]定位装置、曝光装置以及物品的制造方法在审

专利信息
申请号: 202011134936.5 申请日: 2020-10-21
公开(公告)号: CN112764319A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 本间将人 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 刘杨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供有利于高精度地测量载置台的位置的定位装置、曝光装置以及物品的制造方法。进行板的定位的定位装置包括:载置台,能够保持所述板并在第1方向上移动;以及测量部,在所述第1方向上射出光,并基于由设置于所述载置台的上表面之上的反射构件反射的光,测量所述载置台在所述第1方向上的位置,所述载置台在所述第1方向上的所述板与所述反射构件之间具有壁部,该壁部用于减少因所述载置台向所述第1方向的移动而所述板的周围的气体侵入到所述测量部的光路的情形,所述壁部构成为其上端比所述板的上表面高,且与所述板以及所述反射构件分离地配置。
搜索关键词: 定位 装置 曝光 以及 物品 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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