[发明专利]一种集成SBR的SGT MOSFET在审

专利信息
申请号: 202010876407.6 申请日: 2020-08-27
公开(公告)号: CN112185957A 公开(公告)日: 2021-01-05
发明(设计)人: 谢福渊 申请(专利权)人: 娜美半导体有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L29/06;H01L29/786;H01L29/861
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 徐俊
地址: 中国台湾新北*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种包含有SGT MOSFET和SBR的集成电路。所述的SGT MOSFET和SBR水平置于单芯片的不同区域,为MOS沟道中的多数载流子创造了一个低电位势垒,以减少开关损耗。仅需一个额外的掩膜版,即可实现栅氧化层比SGT MOSFET更薄的短沟道SBR的集成。此外,在一些优选实施例中,屏蔽栅电极采用MSO结构以进一步降低导通电阻。
搜索关键词: 一种 集成 sbr sgt mosfet
【主权项】:
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