[发明专利]光刻胶涂布系统以及更换光刻胶的方法

摘要

本申请属于光刻胶涂布技术领域，具体涉及一种光刻胶涂布系统以及更换光刻胶的方法，光刻胶涂布系统包括：供胶机构，供胶机构包括依次连接的供胶瓶、过滤器和喷嘴；清理机构，清理机构包括真空装置和真空管路，真空装置通过真空管路与过滤器连接，真空装置通过在真空管路内形成负压的方式将过滤器内的气泡和杂质颗粒吸出。根据本申请的光刻胶涂布系统，当需要用新品种的光刻胶替换光刻胶涂布系统内原有的光刻胶时，需要对光刻胶涂布系统进行清洗才能设置新品种的光刻胶，而对过滤器的清洗尤为重要，本申请通过真空装置吹扫清洗过滤器内附着的气泡和杂质颗粒，以此降低光刻胶涂布系统的清洗时间。