[发明专利]等离子体反应器及其射频功率分布调节方法在审
| 申请号： | 202010255484.X | 申请日： | 2020-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN113496862A | 公开（公告）日： | 2021-10-12 |
| 发明（设计）人： | 左涛涛;吴狄 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/66;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种等离子体反应器和射频功率分布调节方法，等离子体反应器包括：反应腔，其内底部设导电基座，导电基座通过第一匹配器电路连到第一射频电源装置，导电基座上设静电夹盘，静电夹盘吸附待处理基片，待处理基片上为等离子体环境；插入环，设在导电基座外围；聚焦环，设在插入环上方，聚焦环围绕静电夹盘且暴露于等离子体环境中；耦合环，包括底部环和凸出部，凸出部位于插入环与导电基座间，底部环位于插入环下方，插入环内壁与导电基座外壁的间隙大于0.02毫米小于10毫米；设备板，位于导电基座下方；导线，其第一端电连接到导电基座或设备板，其第二端电连接到插入环，可变阻抗装置串联在导线上。所述等离子体反应器的射频可调且能降低电弧放电。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 反应器 及其 射频 功率 分布 调节 方法 | ||
【主权项】：
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