[发明专利]一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置在审
| 申请号： | 202010170404.0 | 申请日： | 2020-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN111334764A | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 冯斌;王德苗;金浩 | 申请（专利权）人： | 苏州求是真空电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/50;C23C14/04 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置，所述溅射靶源包括靶源座、磁钢、密封板和安装环，所述靶源座远离所述载台的一侧设有腔体和密封所述腔体的密封板；所述溅射靶源的磁钢和靶在所述靶源座上靠近所述载台的一侧由近及远地固定设置；所述腔体中设有中心柱和若干针状结构，所述密封板的中心孔和所述中心柱之间密封连接；所述靶源座和密封板固连，所述载台包括载台座、板状磁钢和磁靴，所述载台的板状磁钢和磁靴在所述载台座上远离所述溅射靶源的一侧由近及远地固定设置。本发明兼顾了镀膜均匀性与加工、控制复杂性等要求，能够改善器件内壁镀膜的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 能够 改善 内壁 镀膜 均匀 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州求是真空电子有限公司，未经苏州求是真空电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010170404.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
