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- [发明专利]一种应用于柱形旋转靶的挡板组件-CN201711096028.X有效
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吴疆;李东滨;秦正春;冯斌;王德苗;金浩
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浙江大学昆山创新中心
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2017-11-09
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2023-10-10
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C23C14/34
- 本发明公开了一种应用于柱形旋转靶的挡板组件，包括自由环、半圆环挡板、连轴环、环状压板、轴承和滚珠；自由环呈U型，其外侧部上对称设置有两个限位件；半圆环挡板与自由环的底端相连；连轴环呈U型，设于自由环内部，包括圆环状的底部和环状凸起部；环状压板和轴承均套设在连轴环的环状凸起部外侧，环状压板通过外侧套设有弹性件的螺杆与自由环相连；连轴环的圆环状的底部的底表面与自由环的圆环状的底部的顶表面的对应位置处均设有环形凹槽，环形凹槽上设有球形凹坑，滚珠设于环形凹槽或者球形凹坑内。本发明无需使用单独配套的电机或者气缸等驱动装置，同时无需使用单独配套的真空腔体开孔结构和轴封结构，能够减少故障点的同时降低挡板的制作成本。
- 一种应用于旋转挡板组件
- [实用新型]一种基片装片台-CN202223390297.6有效
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顾骏;王德苗;顾为民;冯斌;李东滨
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杭州比凡科电子科技有限公司
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2022-12-17
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2023-05-05
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C23C14/50
- 本实用新型公开了一种基片装片台，涉及镀膜技术领域，包括机体和固定安装在所述机体上的控制面板，所述真空筒固定安装在所述机体上；多个溅射靶头，各所述溅射靶头均固定安装在所述真空筒上；转板，所述转板竖向滑动设置在所述真空筒内；多个旋转组件，各所述旋转组件均固定设置在所述转板上。本实用新型提供的一种基片装片台，通过利用旋转组件对基片进行翻转，使得工作人员无需多次打开真空筒，便能够对基片的双面同时进行磁控溅射镀膜处理，不仅减少了工作人员的工作量，提高了对基片磁控溅射镀膜的效率，尽量避免了由于多次打开真空筒对真空筒中的真空效果造成影响的情况发生，在一定程度上提高了对基片磁控溅射镀膜的效果。
- 一种基片装片台
- [实用新型]一种磁控溅射镀膜靶材-CN202222945926.0有效
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冯斌;王德苗;顾骏;顾为民
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杭州比凡科电子科技有限公司
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2022-11-01
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2023-03-24
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C23C14/35
- 本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜靶材，包括两个支架、背板、两个靶材、连接轴和两个L型板，背板转动连接在两个支架之间，两个L型板分别固定连接在背板顶部与底部的两端，L型板的内侧设置有固定组件，两个靶材分别通过固定组件设置在背板的两侧，连接轴转动连接在其中一个支架的一侧，背板转轴的一端与连接轴靠近背板的一端固定连接，连接轴的外侧设置有位移组件，位移组件用于固定背板。本实用新型以解决，现有的背板一般是固定安装在磁控溅射镀膜设备内，从而导致背板只有一个表面能够绑定靶材，在当前靶材消耗完毕，需要花费较长时间来更换靶材，降低了工作效率，使得在生产进度比较紧张时，容易延误加工进度，不利于实际应用的问题。
- 一种磁控溅射镀膜
- [实用新型]一种翻转式片架-CN202223126898.6有效
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顾骏;王德苗;顾为民;冯斌;李东滨
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杭州比凡科电子科技有限公司
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2022-11-23
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2023-03-21
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C03C17/00
- 本实用新型公开了一种翻转式片架，包括下夹片架、上夹片架和安装板，下夹片架的外侧对称开设有第一槽口，第一槽口的内部均固定连接有转轴，转轴的外侧转动连接连接组件，连接组件包括转动环，转动环转动连接在转轴的外侧，转动环的外侧固定连接有方形连接杆，转动环的外侧且位于方形连接杆的一侧固定连接有丝杆，上夹片架的外侧均开设有第二槽口，上夹片架与下夹片架通过丝杆相连接，通过上述技术手段，从而解决了传统基片架缺少翻转结构，通过翻转的方式对基片的两面进行镀膜，只能在一面完成镀膜后再对另一面进行镀膜，且需要两次等待镀膜凝固的时间，繁琐且耗时，且缺少调节功能，无法对不同宽度的基片进行夹持，使用局限性较大的问题。
- 一种翻转式片架
- [实用新型]一种基片输送机-CN202223037991.X有效
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顾骏;王德苗;顾为民;冯斌;李东滨;任高潮
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杭州比凡科电子科技有限公司
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2022-11-15
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2023-03-14
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B65G49/06
- 本实用新型公开了一种基片输送机，包括底座，底座的顶部固定连接有固定板，固定板的内壁固定连接有滑杆，滑杆的外壁滑动连接有滑块，滑块的一端固定连接有下压板，下压板的底部固定连接有第一固定块，第一固定块的一侧固定连接有转轴，转轴的外壁设置有扭力弹簧，扭力弹簧的一端固定连接有顶杆，本实用新型的有益效果在于，向下移动下压板，带动顶杆向下移动，顶杆触碰到底座时，自身转动，带动扭力弹簧压紧，顶杆在转动的过程中，推动底座上的基片向前移动，随后向上移动下压板，带动顶杆向上移动，在扭力弹簧的作用下，顶杆复位，由此往复，可以将基片向前推动，方便作业人员对底座上的基片进行加工。
- 一种输送
- [实用新型]一种磁控溅射镀膜冷却室-CN202222996854.2有效
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冯斌;王德苗;顾骏;顾为民;任高潮
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杭州比凡科电子科技有限公司
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2022-11-08
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2023-02-28
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C23C14/35
- 本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜冷却室，包括冷却室本体，冷却室本体的一侧设置有进风箱，进风箱的顶部固定连接有吸风机，吸风机的输入端固定连接有连接头，连接头远离吸风机的一侧等距固定连接有冷却铜管，冷却室本体的内部固定连接有冷却箱，冷却箱的内部等距固定连接有环形结构的冷凝板，冷却铜管均贯穿冷凝板且延伸至冷却箱的内部，本实用新型的有益效果在于：通过在冷却室本体内铺设冷却铜管，并通过冷凝板对冷却铜管内部的空气进行降温，从而使得冷却铜管内部的气体在经过冷凝板后处于较低的温度，进而使这股冷空气与冷却室本体的顶部相接触，从而带走靶材通过导热传递给冷却室本体的热量，从而可以更好的为靶材进行散热冷却。
- 一种磁控溅射镀膜冷却
- [实用新型]一种耐高温双用途晶控仪-CN201921033917.6有效
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冯斌;金浩;王德苗
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浙江大学昆山创新中心
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2019-07-04
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2020-06-02
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C23C14/54
- 本实用新型公开了一种耐高温双用途晶控仪，包括于真空室内与衬底支架相连的石英片载台、置于真空室内与石英片载台连接的射频接线座和置于真空室外的晶控主机，所述石英片载台包括相对的上载台和下载台，分别用于放置一片石英晶片，所述上载台石英晶片其中一面以适当面积正对镀膜方向裸露，所述下载台石英晶片置于镀膜方向的反方向，且只通过少量通气孔暴露于外面，使其在镀膜时不会被沉积上薄膜，所述上载台和所述下载台之间良好导热。本装置可在高温镀膜环境下应用，无需水冷装置，一方面消除了镀膜阴影，降低了漏气漏水概率，另一方面也便于晶片载台和射频接线座的设计和制作，且结构小巧，制作成本低，同时该晶控仪可以在镀膜时实时测量膜厚和温度。
- 一种耐高温用途晶控仪
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