[发明专利]一种高阻抗半导体电阻器结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010165357.0 申请日: 2020-03-11
公开(公告)号: CN111653565B 公开(公告)日: 2023-03-17
发明(设计)人: 林志东;魏鸿基;王勇;王浩 申请(专利权)人: 厦门市三安集成电路有限公司
主分类号: H01L27/07 分类号: H01L27/07;H01L27/02;H10N97/00;H01L29/20;H01L29/778
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 代理人: 张松亭;陈淑娴
地址: 361000 福建省厦门*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种高阻抗半导体电阻器结构及其制作方法,包括GaAs外延层以及设于所述GaAs外延层上的PIN结构,所述GaAs外延层包括盖层,所述PIN结构包括依次设于所述盖层之上的N型半导体层、I型半导体层和P型半导体层;所述PIN结构和所述盖层的至少部分深度注入有绝缘离子。本发明采用基于PIN结构的半导体电阻器,通过注入适量的绝缘离子对PIN结构轻微绝缘,获得高阻抗的半导体电阻器,拓宽了产品在高阻抗特性上的应用。
搜索关键词: 一种 阻抗 半导体 电阻器 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
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