[发明专利]半导体存储装置在审

专利信息
申请号: 202010130930.4 申请日: 2020-02-26
公开(公告)号: CN112530954A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 吉水康人 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L27/11519 分类号: H01L27/11519;H01L27/11524;H01L27/11556;H01L27/11565;H01L27/1157;H01L27/11582
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实施方式提供一种可抑制制造成本增加的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置具备第1配线层、第2配线层、多个第3配线层、第1绝缘层、以及第1存储器柱。第2配线层与第1配线层电性连接。多个第3配线层在第1方向上的第1配线层与第2配线层之间相互在第1方向上隔开积层,且在与第1方向交叉的第2方向上延伸。第1绝缘层贯通多个第3配线层,第1配线层侧的端部与第1配线层的第1面相接,且在第2方向上延伸。第1存储器柱贯通多个第3配线层,侧面与在第2方向上延伸且朝向与第1及第2方向交叉的第3方向的第1绝缘层的第2面相接,第1配线层侧的端部与第1配线层的第1面相接,且包括:含有在第1方向上延伸的第1半导体层、以及设在多个第3配线层与第1半导体层之间且可存储数据的电荷蓄积层。第1配线层的作为第1面的相反面的第3面与第2配线层的第1方向上的距离在与第1绝缘层对应的位置及与第3配线层对应的位置不同。
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于铠侠股份有限公司,未经铠侠股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010130930.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top