[发明专利]一种三维堆叠集成结构及其多芯片集成结构和制备方法有效

专利信息
申请号: 202010130712.0 申请日: 2020-02-28
公开(公告)号: CN111312697B 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 李宝霞 申请(专利权)人: 西安微电子技术研究所
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L21/98;H01L23/498;H01L23/528;H01L23/532;H01L23/538;H01L21/50;H01L21/768
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 陈翠兰
地址: 710065 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明一种三维堆叠集成结构及其多芯片集成结构和制备方法,包括基片和嵌装在基片内的若干芯片;基片上设置若干贯穿基片正面和背面的导电通孔,与基片绝缘设置的导电通孔内部填充导电材料;基片背面间隔设置有若干凹槽,每个凹槽内均嵌入对应的芯片,芯片正面的芯片焊盘朝向基片背面;基片背面的表面依次设置有电连通的背面多层金属布线层、背面凸点下金属层和背面对外电引脚,基片正面的表面依次设置有电连通的正面多层金属布线层、正面凸点下金属层和正面对外电引脚,形成多芯片集成结构水平方向的电连接;实现多个芯片高密度、高性能、高可靠的三维TSV堆叠集成,解决不同功能、不同尺寸、不同材质、不同工艺的多个芯片三维集成问题。
搜索关键词: 一种 三维 堆叠 集成 结构 及其 芯片 制备 方法
【主权项】:
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