[发明专利]一种调焦调平系统、方法及光刻机有效
| 申请号： | 202010069896.4 | 申请日： | 2020-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN113138546B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 毛静超;徐荣伟;庄亚政;孙建超;季桂林;李淑蓉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种调焦调平系统、方法及光刻机，调焦调平系统包括光源模块、照明模块、投影模块、探测模块、探测器和信息处理模块，投影模块包括对准狭缝和测量狭缝，探测器设有第一参考标记和第二参考标记。光源模块提供的照射光束，经照明模块、投影狭缝、投影组件后入射至基底，经基底反射后出射至探测模块，最后在探测器上形成对准光斑和测量光斑，探测器根据第一参考标记接收到的对准光斑输出第一电压信号，根据第二参考标记接收到的测量光斑输出第二电压信号，信息处理模块根据第一电压信号判断对准光斑与第一参考标记是否对准，若对准，根据第二电压信号计算基底的离焦量。本发明可以提高集成效率，降低系统测量误差，增加测量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调焦 系统 方法 光刻 | ||
【主权项】：
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