[发明专利]抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法在审
| 申请号： | 201911129096.0 | 申请日： | 2019-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN111198479A | 公开（公告）日： | 2020-05-26 |
| 发明（设计）人： | 斋藤彩;河野绅一;大野庆晃;砂道智成 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 毛立群 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种抗蚀剂组合物，含有：基材成分(A)，对显影液的溶解性因酸的作用而变化；抗溶解剂(Z)，抑制对显影液的溶解性，所述抗溶解剂(Z)包含化合物(Z1)与化合物(Z2)，所述化合物(Z1)的质均分子量为3000以下且在分子内具有酚羟基或羧基，所述化合物(Z2)的质均分子量为3000以下且以下述通式(z2)表示，式中，R |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂 组合 以及 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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