[发明专利]镀膜生产线控制方法

摘要

本发明公开了一种镀膜生产线控制方法，方法应用到上位机中，传送流水线和镀膜生产线首尾相连形成一环形流水线，上位机与传送流水线以及镀膜生产线相通信连接，以通过上位机对所述传送流水线和所述镀膜生产线进行控制，上述方法可以实时检测基片的位置，并根据基片的位置对整个镀膜生产线各个腔室的真空范围进行调节，此外还可以对基片的传动速度进行调节，从而可以对整个生产线进行控制，进而保证了镀膜的准确性。形成一环形流水线，节约占地面积，整个镀膜生产线中基片传送采用智能控制，节约人力物力，提供生产效率，镀膜流水线中各腔室依据产品需求更换或增加，整条镀膜生产线适应多种镀膜工艺要求，使用寿命延长，节约资源。

主权项

1.一种镀膜生产线控制方法，所述方法应用到上位机中，传送流水线和镀膜生产线首尾相连形成一环形流水线，上位机与传送流水线以及镀膜生产线相通信连接，以通过所述上位机对所述传送流水线和所述镀膜生产线进行控制，其特征在于，所述方法包括：/n检测进口室内是否传入基片，当所述进口室传入基片时，则通过真空泵将所述生产线上各个腔室抽真空至中真空范围，并将所述基片传送入进口缓冲室；/n检测进口缓冲室是否传入基片，当所述进口缓冲室传入基片时，则对所述基片进行加热，并将所述基片传送至进口过渡室；/n检测进口过渡室是否传入基片，当所述进口过渡室传入基片时，则对所述基片进行加热，并通过真空泵和分子泵对所述进口过渡室以及所述生产线后续的预设腔室进行抽真空至高真空范围，并将所述基片传送至清洗室；/n检测清洗室是否传入基片，当所述清洗室传入基片时，则启动等离子设备对所述基片进行清洗，并控制传送基片的传动辊的运行模式从间断模式转变为连续模式，将所述基片依次传入至多个镀膜工艺室，且多个镀膜工艺室之间至少设置一个隔离室；/n检测出口过渡室是否传入基片，当出口过渡室传入基片时，则控制传送基片的传动辊的运行模式从连续模式转变为间断模式，并将真空范围由高真空范围降低至中真空后，将所述基片传送至出口缓冲室；/n检测出口缓冲室是否传入基片，当出口缓冲室传入基片时，则将真空范围由中真空范围降低至低真空后，将所述基片传送至出口室；/n检测出口室是否传入基片，当出口室传入基片时，则将真空范围由低真空范围降低至大气状态后，开启阀门将所述基片送出所述出口室。/n