[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201910615762.5 申请日: 2019-07-09
公开(公告)号: CN110310921B 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 张建业 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/12;H01L21/033;H01L21/027;H01L27/32
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 李娜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置,涉及显示技术领域。本发明通过在衬底基板上形成薄膜晶体管,依次形成钝化层和平坦层,在平坦层上形成金属掩膜层,对金属掩膜层进行图形化处理,以形成待刻蚀孔,对待刻蚀孔在垂直于衬底基板的方向上露出的平坦层和钝化层进行刻蚀,以形成贯穿平坦层和钝化层的过孔,并去除平坦层上剩余的金属掩膜层。通过在平坦层上增加一层金属掩膜层,在对金属掩膜层进行图形化处理形成待刻蚀孔时,金属掩膜层上涂覆的光刻胶较为均匀,形成的待刻蚀孔不会出现刻蚀不完全或过刻的现象,后续通过待刻蚀孔形成贯穿平坦层和钝化层的过孔时,也不会出现刻蚀不完全或过刻的现象,提高显示面板的良率。
搜索关键词: 一种 显示 及其 制作方法 面板 显示装置
【主权项】:
1.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:在衬底基板上形成薄膜晶体管;依次形成钝化层和平坦层,所述钝化层覆盖所述薄膜晶体管,所述平坦层覆盖所述钝化层;在所述平坦层上形成金属掩膜层;对所述金属掩膜层进行图形化处理,以形成待刻蚀孔;对所述待刻蚀孔在垂直于所述衬底基板的方向上露出的平坦层和钝化层进行刻蚀,以形成贯穿所述平坦层和所述钝化层的过孔,并去除所述平坦层上剩余的金属掩膜层。
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