[发明专利]处理基板的方法有效
| 申请号： | 201910514110.2 | 申请日： | 2015-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN110211859B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | G·巴拉苏布拉马尼恩;J·C·罗查－阿尔瓦雷斯;R·萨卡拉克利施纳;R·金;D·R·杜鲍斯;K·H·弗劳德;A·K·班塞尔;T·A·恩古耶 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/687;C23C16/509;C23C16/458 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种用于处理基板的方法与设备。该设备包括基座与旋转构件，基座与旋转构件可移动地设置在处理腔室内。旋转构件适配成旋转设置在腔室中的基板。在处理期间，基板可由边缘环支撑。边缘环可选择性地啮合基座或旋转构件。在一个实施例中，在沉积工艺期间，边缘环啮合基座，并且在基板的旋转期间，边缘环啮合旋转构件。处理期间的基板的旋转可以是不连续的或连续的。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种处理基板的方法，包括以下步骤：将膜的第一部分沉积在处于第一位置中的基板上；停止所述膜的所述第一部分的沉积；啮合旋转构件以将所述基板从所述第一位置旋转到不同于所述第一位置的第二位置；以及将所述膜的第二部分沉积在处于所述第二位置中的所述基板上。
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