[发明专利]一种调控硼碳氮薄膜中氮化硼晶体生长的方法有效

专利信息
申请号: 201910147275.0 申请日: 2019-02-27
公开(公告)号: CN109750266B 公开(公告)日: 2019-12-31
发明(设计)人: 殷红;李宇婧;高伟 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06;C30B23/00;C30B29/38
代理公司: 11569 北京高沃律师事务所 代理人: 赵晓琳
地址: 130000 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明涉及薄膜材料领域,提供了一种调控硼碳氮薄膜中氮化硼晶体生长的方法,包括以下步骤:(1)提供分布有金刚石籽晶的基底;(2)在基底的金刚石籽晶表面进行磁控溅射,得到含有氮化硼晶体的硼碳氮薄膜;所述步骤(2)中磁控溅射的靶材为含碳的氮化硼靶。本发明在金刚石籽晶预处理过的基底上生长硼碳氮薄膜,促进了薄膜中氮化硼纳米晶的生长,提高了硼碳氮薄膜的结晶度和薄膜中氮化硼的成分,为硼碳氮薄膜的生长提供了重要的实验依据,为硼碳氮薄膜在工业领域内的应用提供了新的方法。
搜索关键词: 硼碳氮薄膜 氮化硼晶体 金刚石籽晶 生长 基底 磁控溅射 氮化硼 薄膜 预处理 氮化硼纳米 薄膜材料 工业领域 应用提供 结晶度 靶材 调控
【主权项】:
1.一种调控硼碳氮薄膜中氮化硼晶体生长的方法,包括以下步骤:/n(1)提供分布有金刚石籽晶的基底;/n提供分布有金刚石籽晶的基底的方法包括:采用含有金刚石籽晶的砂纸抛光基底;/n(2)在基底的金刚石籽晶表面进行磁控溅射,得到含有氮化硼晶体的硼碳氮薄膜;/n所述步骤(2)中磁控溅射的靶材为含碳的氮化硼靶。/n
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