[发明专利]控制装置及控制方法、曝光装置及曝光方法、元件制造方法、数据生成方法和计算机可读介质有效
| 申请号： | 201880018566.3 | 申请日： | 2018-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN110431486B | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 屋敷賢 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 胡林岭 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种控制装置及控制方法、曝光装置及曝光方法、元件制造方法、数据生成方法和程序产品。控制装置对空间光调制器进行控制，空间光调制器被用于具备将图案像投影至物体的投影光学系统的曝光装置中，且具备各自的状态可变更的多个光学部件，其中将第一区域的光学部件的状态设定为第一分布，以使来自位于所述第一区域的光学部件的光的一部分入射至投影光学系统，第一分布指处于第一状态的第一光学部件和处于第二状态的第二光学部件以第一分布图案而分布，且将第二区域的光学部件的状态设定为第二分布，以减轻因入射至投影光学系统的来自第一区域的光引起的图案像的劣化，第二分布指第一光学部件和第二光学部件以第二分布图案而分布。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 装置 方法 曝光 元件 制造 数据 生成 计算机 可读 介质 | ||
【主权项】：
1.一种控制装置，对空间光调制器进行控制，所述空间光调制器被用于包括将图案像投影至物体的投影光学系统的曝光装置中，且包括各自的状态能够变更的多个光学部件，其特征在于，将位于第一区域的所述多个光学部件的状态设定为第一分布，以使来自位于所述第一区域的多个所述光学部件的光的一部分入射至所述投影光学系统，所述第一分布是指，处于第一状态的第一光学部件、和处于与所述第一状态不同的第二状态的第二光学部件以第一分布图案而分布，将位于与所述第一区域邻接的第二区域的多个所述光学部件的状态设定为第二分布，以减轻因入射至所述投影光学系统的来自所述第一区域的光引起的所述图案像的劣化，所述第二分布是指，所述第一光学部件和所述第二光学部件以与所述第一分布图案不同的第二分布图案而分布。
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