[实用新型]一种多功能磁控溅射镀膜装置有效
| 申请号： | 201821455566.3 | 申请日： | 2018-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN208803137U | 公开（公告）日： | 2019-04-30 |
| 发明（设计）人： | 王燕丽;王昕涛 | 申请（专利权）人： | 东莞市典雅五金制品有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50;C23C14/56;C23C14/52;C23C14/54 |
| 代理公司： | 东莞众业知识产权代理事务所(普通合伙) 44371 | 代理人： | 何恒韬 |
| 地址： | 523000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开一种多功能磁控溅射镀膜装置，包括机架、真空镀膜室、上法兰、下法兰、可伸缩的磁控靶和可加热、旋转及上下移动的基片架，所述真空镀膜室装设于机架上，所述磁控靶和基片架均设于真空镀膜室内，所述上法兰和下法兰设于真空镀膜室的上下两端，所述基片架安装于上法兰上，所述磁控靶为三个，三个磁控靶倾斜固定安装于下法兰上，三个磁控靶均朝向基片架，所述磁控靶与下法兰的垂直线成一定角度。本实用新型具有三个磁控靶，既能实现单靶沉积，也能实现三靶沉积，有利于制备复合金属膜，且能提高镀膜质量，有效提高镀膜的沉积效率。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控靶 基片架 下法兰 真空镀膜室 上法兰 多功能磁控溅射 本实用新型 镀膜装置 镀膜 沉积 复合金属膜 沉积效率 可伸缩的 倾斜固定 上下两端 上下移动 真空镀膜 垂直线 可加热 单靶 制备 装设 室内 | ||
【主权项】：
1.一种多功能磁控溅射镀膜装置，其特征在于：包括机架、真空镀膜室、上法兰、下法兰、可伸缩的磁控靶和可加热、旋转及上下移动的基片架，所述真空镀膜室装设于机架上，所述磁控靶和基片架均设于真空镀膜室内，所述上法兰和下法兰设于真空镀膜室的上下两端，所述基片架安装于上法兰上，所述磁控靶为三个，三个磁控靶倾斜固定安装于下法兰上，三个磁控靶均朝向基片架，所述磁控靶与下法兰的垂直线成一定角度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞市典雅五金制品有限公司，未经东莞市典雅五金制品有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201821455566.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种四工位靶装置
- 下一篇：一种四靶双离子束溅射镀膜装置
- 同类专利
- 专利分类
