[发明专利]钴靶坯的制作方法在审
| 申请号： | 201811319501.0 | 申请日： | 2018-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN111155060A | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;王学泽;黄东长 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/14;C22F1/10 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 吴敏 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种钴靶坯的制作方法，包括：提供钴锭，将所述钴锭进行热轧工艺，形成初级钴靶坯；将热轧工艺后的所述初级钴靶坯进行退火处理；将退火处理后的所述初级钴靶坯进行冷轧工艺。将所述钴锭进行热轧工艺的目的是使得所述镍锭的可塑性能提高，进一步细化所述钴锭内部的晶粒，从而使得形成的所述初级钴靶坯的内部组织更加密实，力学性能得以提高；轧制完成后进行退火处理，这一步使得所述初级钴靶坯内部的应力释放，并且使得所述初级钴靶坯内部晶粒的尺寸细小；然后将退火后的所述初级钴靶坯经冷轧，可以使得所述初级钴靶坯形成更多密排六方(HCP)结构，从而提高所述钴材料的透磁率(PTF)。 | ||
| 搜索关键词： | 钴靶坯 制作方法 | ||
【主权项】：
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