[发明专利]抛光垫在审
| 申请号： | 201811051217.X | 申请日： | 2018-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN110883685A | 公开（公告）日： | 2020-03-17 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁礼君;阚梓瑄 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本公开提出一种抛光垫，具有抛光表面，抛光表面上设有多个研磨槽。定义一参考平面，参考平面垂直于研磨槽的延伸方向，研磨槽的槽腔在参考平面上的正投影呈倒梯形。本公开提出的抛光垫的研磨槽的槽口宽度大于槽底宽度，使得抛光过程中存在于研磨槽中的杂质较容易被去除，从而改善研磨缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 | ||
【主权项】：
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- 刘伟锋 - 上海精厚电子科技有限公司
- 2022-09-28 - 2022-12-23 - B24B37/26
- 本实用新型提供一种可吸附的晶圆垫，本设计可以方便对晶圆吸引固定，保证稳定性，同时可以方便对整体放置，可以取下晶圆后重复使用，其包括基垫，基垫上设置有气囊垫，气囊垫为中空结构，气囊垫的顶部设置有防静电垫片，防静电垫片上开设有多个第二气孔，气囊垫上开设有多个第一气孔，第一气孔与第二气孔相连通，防静电垫片的顶部放置有晶圆，防静电垫片上设置有保护膜，气囊垫上连通有单向排气机构，所述基垫的底部开设有多个负压吸孔，所述防静电垫片上设置有胶膜，胶膜为环形结构且与保护膜粘结，所述单向排气机构包括排气管，排气管与气囊垫相连通，排气管内设置有隔板，隔板上开设有圆孔，隔板上设置有导向杆。
- 一种研磨垫及其制作方法-201710153311.5
- 张文杰;谢庆丰;彭毅萍 - 东莞华晶粉末冶金有限公司
- 2017-03-15 - 2022-12-09 - B24B37/26
- 本发明公开了一种研磨垫及其制作方法，该研磨垫包括研磨层，所述研磨层的材料包含按总质量百分比计的聚氨酯树脂30％‑60％、立方氮化硼磨料10％‑50％、碳化硅10％‑30％、铝粉1％‑15％、石墨1％‑15％，所述研磨层中形成有均匀分布的气泡。采用该研磨垫，可解决使用传统研磨垫加工成本高、产品质量差、加工寿命短等问题。
- 一种研磨垫及具有其的研磨装置-202111372782.8
- 蒋锡兵;唐强 - 北京烁科精微电子装备有限公司
- 2021-11-18 - 2022-11-29 - B24B37/26
- 本发明涉及晶圆生产技术领域，具体涉及一种研磨垫及具有其的研磨装置。一种研磨垫，包括：基体，设有基底；多个不同形状的磨料块，间隔设置在所述基底上，以形成多个不同形状的储料槽。本发明解决了晶圆研磨时速率不稳，易出现高低不平、存在颗粒，良品率低的缺陷，从而提供一种研磨垫及具有其的研磨装置。
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