[发明专利]薄膜晶体管及薄膜晶体管的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810913496.X 申请日: 2018-08-13
公开(公告)号: CN109148595B 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 尹易彪 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/336;H01L21/34
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种薄膜晶体管,包括栅极层、设置在栅极层上的光折射层、设置在光折射层上的绝缘层、设置在绝缘层上的有源层和设置在有源层上的有漏层。本发明通过光折射层的设置,并在栅极层和源漏层形成的寄生电容的作用下,改变光折射层的折射率,使背光源的入射光发生偏转,进而改善薄膜晶体管处于ON状态和OFF状态时的光电载流子效应。
搜索关键词: 薄膜晶体管 制备 方法
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,用于显示装置,其特征在于,包括:基板,栅极层,设置在所述基板上;光折射层,设置在所述栅极层上,至少覆盖所述栅极层的两侧;绝缘层,设置在所述光折射层上;有源层,设置在所述绝缘层上;以及源漏层,设置在所述有源层上;其中所述有源层包括与所述栅极层交叠形成的沟道区,所述光折射层用于使背光源的入射光发生折射,当所述薄膜晶体管处于ON状态时,通过正电压导通所述薄膜晶体管,所述栅极层和所述源漏层形成寄生电容,改变所述光折射层的折射率,以使所述光折射层将背光源的入射光偏转至所述沟道区;当所述薄膜晶体管处于OFF状态时,通过负电压关闭所述薄膜晶体管,所述栅极层和所述源漏层形成寄生电容,改变所述光折射层的折射率,以使所述光折射层将背光源的入射光偏转至所述沟道区之外。
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