[发明专利]薄膜晶体管及薄膜晶体管的制备方法有效
申请号: | 201810913496.X | 申请日: | 2018-08-13 |
公开(公告)号: | CN109148595B | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 尹易彪 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L21/336;H01L21/34 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种薄膜晶体管,包括栅极层、设置在栅极层上的光折射层、设置在光折射层上的绝缘层、设置在绝缘层上的有源层和设置在有源层上的有漏层。本发明通过光折射层的设置,并在栅极层和源漏层形成的寄生电容的作用下,改变光折射层的折射率,使背光源的入射光发生偏转,进而改善薄膜晶体管处于ON状态和OFF状态时的光电载流子效应。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,用于显示装置,其特征在于,包括:基板,栅极层,设置在所述基板上;光折射层,设置在所述栅极层上,至少覆盖所述栅极层的两侧;绝缘层,设置在所述光折射层上;有源层,设置在所述绝缘层上;以及源漏层,设置在所述有源层上;其中所述有源层包括与所述栅极层交叠形成的沟道区,所述光折射层用于使背光源的入射光发生折射,当所述薄膜晶体管处于ON状态时,通过正电压导通所述薄膜晶体管,所述栅极层和所述源漏层形成寄生电容,改变所述光折射层的折射率,以使所述光折射层将背光源的入射光偏转至所述沟道区;当所述薄膜晶体管处于OFF状态时,通过负电压关闭所述薄膜晶体管,所述栅极层和所述源漏层形成寄生电容,改变所述光折射层的折射率,以使所述光折射层将背光源的入射光偏转至所述沟道区之外。
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