[发明专利]表面波等离子体加工设备有效
| 申请号： | 201810876914.2 | 申请日： | 2018-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN110797250B | 公开（公告）日： | 2022-12-09 |
| 发明（设计）人： | 王桂滨;韦刚 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种表面波等离子体加工设备，包括反应腔室和设置在反应腔室顶部的谐振腔，谐振腔的底壁设置有介质窗，还包括介质板，介质板设置于谐振腔的底壁的下方，其中，介质板在谐振腔的底壁上的正投影遮挡至少部分介质窗以及至少部分介质窗以外的区域。本发明提供的表面波等离子体加工设备能够使反应腔室中的等离子体的密度分布更加均匀，从而提高刻蚀均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 表面波 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】：
1.一种表面波等离子体加工设备，包括反应腔室和设置在所述反应腔室顶部的谐振腔，所述谐振腔的底壁设置有介质窗，其特征在于，还包括介质板，所述介质板设置于所述谐振腔的底壁的下方，其中，所述介质板在所述谐振腔的底壁上的正投影遮挡至少部分所述介质窗以及至少部分所述介质窗以外的区域。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司，未经北京北方华创微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810876914.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：工艺腔室和半导体处理设备
- 下一篇：基底加工设备和基底加工方法
