[发明专利]掩膜版制作方法以及掩膜版有效
| 申请号： | 201810777200.6 | 申请日： | 2018-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN108866478B | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 朱小研;朱海彬;黄华;肖维康 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王卫忠;袁礼君 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及掩膜版技术领域，提出一种掩膜版的制作方法，该掩膜版的制作方法包括：在承载基板上形成高分子材料层；在高分子材料层上形成压印胶；利用与掩膜板图案对应的模具在对压印胶进行压印；对压印后的压印胶以及高分子材料层进行刻蚀，从而在高分子材料层上形成掩膜版图案；将承载基板从高分子材料层剥离，从而形成掩膜版。本公开通过上述工艺可以形成较薄的高分子材料层作为掩膜版。一方面，较薄的高分子材料层上可以形成密度较高的开孔作为掩膜版图案；另一方面，高分子材料的密度较小，在对高分子材料层进行张网时，高分子材料层各个位置的屈服力更加均匀，从而使得掩膜版上的图案更均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 制作方法 以及 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版的制作方法，其特征在于，包括：在承载基板上形成高分子材料层；在所述高分子材料层上形成压印胶；利用与掩膜板图案对应的模具在对所述压印胶进行压印；对压印后的所述压印胶以及高分子材料层进行刻蚀，从而在所述高分子材料层上形成所述掩膜版图案；将所述承载基板从所述高分子材料层剥离，从而形成掩膜版。
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