[发明专利]静态存储单元、阵列及器件在审
申请号: | 201810577974.4 | 申请日: | 2018-06-05 |
公开(公告)号: | CN110570888A | 公开(公告)日: | 2019-12-13 |
发明(设计)人: | 王楠 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | G11C11/419 | 分类号: | G11C11/419;G11C11/412 |
代理公司: | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种静态存储单元、阵列及器件,所述上拉晶体管组中具有呈对角线排布的两个上拉晶体管,所述下拉晶体管组位于所述上拉晶体管组的两侧,所述传输门晶体管组位于所述下拉晶体管组的外侧,所述下拉晶体管中的多个下拉晶体管的栅极呈一列排布,所述传输门晶体管组中的多个传输门晶体管的栅极呈一列排布,可以方便的区分所述下拉晶体管及所述传输门晶体管,实现单独选中并操作所述传输门晶体管,以对所述传输门晶体管的源极、漏极或者栅极进行特殊的操作(例如离子注入),增加其读写的电流,进而增加静态存储单元的读写速度。 | ||
搜索关键词: | 传输门晶体管 下拉晶体管 上拉晶体管 排布 静态存储单元 读写 对角线 漏极 源极 离子 选中 | ||
【主权项】:
1.一种静态存储单元,其特征在于,所述静态存储单元形成于一衬底上,所述静态存储单元包括上拉晶体管组、两个下拉晶体管组及两个传输门晶体管组;/n所述上拉晶体管组包括两个上拉晶体管,两个所述上拉晶体管的栅极在所述衬底上呈对角线排布;所述下拉晶体管组包括多个下拉晶体管,多个所述下拉晶体管的栅极呈一列排布;所述传输门晶体管组包括多个传输门晶体管,多个所述传输门晶体管的栅极呈一列排布;/n两个所述下拉晶体管组分别位于所述上拉晶体管组的外侧,两个所述传输门晶体管组分别位于两个所述下拉晶体管组的外侧。/n
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