[发明专利]一种发光二极管的制作方法有效
申请号: | 201810079389.1 | 申请日: | 2018-01-26 |
公开(公告)号: | CN108346721B | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
发明(设计)人: | 陈功;许圣贤;林素慧;彭康伟;洪灵愿;张家宏 | 申请(专利权)人: | 厦门市三安光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/10 | 分类号: | H01L33/10;H01L33/46;H01L33/22;H01L33/24;H01L33/00 |
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地址: | 361009 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明提出一种发光二极管的制作方法,包括工艺步骤:提供一衬底,并生长第一发光外延层;在第一发光外延层上形成掩膜层并进行图案化,形成图案化掩膜层;进行蚀刻工艺,使得第一发光外延层形成图案化凹凸结构;在图案化凹凸结构的凹坑中形成金属颗粒;继续生长第二发光外延层。 | ||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种发光二极管的制作方法,包括工艺步骤:(1)提供一衬底,并生长第一发光外延层;(2)在第一发光外延层上形成掩膜层并进行图案化,形成图案化掩膜层;(3)进行蚀刻工艺,使得第一发光外延层形成图案化凹凸结构;(4)在图案化凹凸结构的凹坑中形成金属颗粒;(5)继续生长第二发光外延层。
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