[实用新型]用于反应式等离子体沉积工艺腔的工艺压力控制系统

摘要

本实用新型公开了一种用于反应式等离子体沉积工艺腔的工艺压力控制系统，包括工艺腔、设置在工艺腔内的阴极管以及与工艺腔的抽气端连接的抽真空装置，还包括控制器，以及分别与控制器电连接的压力传感器、第一电控流量计、第二电控流量计和第三电控流量计；压力传感器安装在工艺腔上，用于检测工艺腔内的气压；离化气体经由第一电控流量计通入到阴极管内；压力调节气体经由第二电控流量计通入到工艺腔内；反应气体经由第三电控流量计通入到工艺腔内。本实用新型能够满足RPD设备的工艺要求，在获得稳定、可靠的成膜质量的同时，解决了人工计算和调节工艺压力所产生的操作繁琐、计算复杂、过程滞后以及控制精度差的问题。

主权项

一种用于反应式等离子体沉积工艺腔的工艺压力控制系统，包括工艺腔、所述工艺腔上的阴极管以及与所述工艺腔的抽气端连接的抽真空装置，其特征在于，还包括：控制器，以及分别与所述控制器电连接的压力传感器、第一电控流量计、第二电控流量计和第三电控流量计；所述压力传感器安装在所述工艺腔上，用于检测所述工艺腔内的气压；离化气体经由所述第一电控流量计通入到所述阴极管内；压力调节气体经由所述第二电控流量计通入到所述工艺腔内；反应气体经由所述第三电控流量计通入到所述工艺腔内。