[发明专利]载置台和等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201711284031.4 | 申请日： | 2017-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN108183058B | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 上田雄大 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种载置台，其削减妨碍从聚焦环向基座导热的孔以改善聚焦环的温度不均。载置台包括：用于载置被处理体的基座；以包围载置被处理体的区域的方式设置于基座上的聚焦环；形成有贯通孔的连结部件，其被插入在基座上的与聚焦环的下部对应的区域形成的插入孔，将基座与基座的下方的部件连结；和升降销，其被插入连结部件的贯通孔以从插入孔可突出的方式设置在基座，从插入孔突出而使聚焦环上升。 | ||
| 搜索关键词： | 载置台 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种载置台，其特征在于，包括：用于载置被处理体的基座；包围载置所述被处理体的区域且设置于所述基座上的聚焦环；形成有贯通孔的连结部件，其被插入在所述基座上的与所述聚焦环的下部对应的区域形成的插入孔，将所述基座与所述基座的下方的部件连结；和升降销，其被插入所述连结部件的所述贯通孔以从所述插入孔可突出的方式设置在所述基座，从所述插入孔突出而使所述聚焦环上升。
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