[发明专利]载置台构造无效

申请号：	200980129915.X	申请日：	2009-08-04
公开（公告）号：	CN102112649A	公开（公告）日：	2011-06-29
发明（设计）人：	五味淳;水泽宁;波多野达夫;原正道;山本薰;多贺敏	申请（专利权）人：	东京毅力科创株式会社
主分类号：	C23C16/16	分类号：	C23C16/16;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458;H01L21/205;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/683
代理公司：	北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277	代理人：	刘新宇;张会华
地址：	日本***	国省代码：	日本;JP
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摘要：	本发明提供一种载置台构造。为了使用产生具有可逆性的热分解反应的原料气体在处理容器内在被处理体上形成薄膜，该载置台构造设置在上述处理容器内来载置上述被处理体，其特征在于，包括：载置台，其用于在作为其上表面的载置面载置上述被处理体；分解抑制气体供给部件，其设置在上述载置台内，用于朝向载置于上述载置台的载置面的上述被处理体的周边部供给用于抑制上述原料气体的热分解的分解抑制气体。
搜索关键词：	载置台构造
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【主权项】：

一种载置台构造，为了使用产生具有可逆性的热分解反应的原料气体在处理容器内在被处理体上形成薄膜，该载置台构造设置在上述处理容器内来载置上述被处理体，其特征在于，包括：载置台，其用于在作为其上表面的载置面载置上述被处理体；分解抑制气体供给部件，其设置在上述载置台内，用于朝向载置于上述载置台的载置面上的上述被处理体的周边部供给用于抑制上述原料气体的热分解的分解抑制气体。

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摘要：本发明公开了一种化学气相沉积法制备镍带材的方法，使用热解炉对带状镍基材进行加热，将液态羰基镍经汽化器汽化，气态羰基镍与CO气体混合后通入热解炉中，气态羰基镍在带状镍基材表面生成镍和CO气体，镍沉积在带状镍基材表面，即得到镍带材。本发明的化学气相沉积法制备镍带材的方法，具有工艺周期短的优点，操作简单，且能耗低。

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摘要：一种氧化铝陶瓷基片的表面合金化工艺，包括如下步骤：(1)清洗基片，干燥；(2)将基片放入抽真空的气相沉积设备中，加热下通入Fe(CO)₅和Cr(CO)₆的饱和蒸汽，沉积，保温；(3)热扩散退火。经本发明的方法处理后的氧化铝陶瓷基片有稳定的结构形态，表面合金化提高了基片的力学及电学方面的表面性能，作为表面改性的新技术，可广泛应用于许多重要的技术领域。

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摘要：本发明公开了一种MOCVD纳米镍涂层及其制备装置，其特征在于集羰基镍的制备、裂解和处理于一体，以镍粉和CO反应生成的Ni(CO)₄为前驱体，制备的镍涂层有等轴晶，涂层厚度为1～10nm的原子厚度。反应中，CO既作为羰基镍蒸汽的载体又作为生成羰基镍的反应物和羰基镍裂解的产物。其中，有一管道将Ni(CO)₄裂解沉积镍涂层的装置与盛有醇溶液的闭口容器相联，该管道一端伸长到裂解装置顶部，另一端接入装有盛有醇溶液中，且在醇溶液上部有管道将剩余气体循环接入羰基镍生成装置。该系统采用有效的装置对实验有毒气体进行控制和处理，保障了实验环境和操作人员的安全，整体操作简单，CO循环利用，污染小、效率高、降低成本。

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摘要：本实用新型公开一种气相化学沉积法制备镍棒的热解炉，包括炉体、炉体冷却系统、镍管、进气口、尾气出口和油加热系统，炉体壁设有炉体冷却系统，进气口设置在炉体底部中间，油加热系统的导热油进口和导热油出口沿进气口对称设置，尾气出口设置于炉体底部侧边，镍管连通导热油进口和导热油出口，镍管中部位于进气口正上方。炉体冷却系统为水冷系统，额定工作温度为50~60℃，油加热系统的热源与炉体分离设置，外置泵提供循环动力，工作温度为150℃～350℃。本实用新型利用羰基镍热解生产镍棒，结构简单、投资少、生产效率高。羰基镍加热后分解得到金属镍和CO，相对于传统的电解镍生产具有工艺流程短、自动化程度高、污染小、冶炼过程金属损失少等优点。

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摘要：本发明公开了一种铁包铝型复合粉体的制备方法，包括：（a）将微米铝粉添加至流化床中并通入载气，由此执行对铝粉的流化过程；（b）继续通入载气使得流化床中的空气排净，并对流化床加热使之达到预定温度；（c）将羰基铁加入到鼓泡器中并执行加热，使得羰基铁挥发并由载气带入到流化床中发生气相沉积反应，由此制得铁包铝型复合粉体产品。本发明还公开了相应的复合粉体产品及其用途。通过本发明，可以在无需溶剂存在的情况下制得包覆型复合粉体，省去后期的分离和干燥步骤，所制得的产品具备均匀、致密的包覆层，热性能优良且放热集中性好，并尤其适用于含能材料和激光表面熔覆加工等方面的用途。

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申请日： 2012-11-22 - 公布日： 2013-02-13 - 主分类号： C23C16/16
摘要：一种碳纳米管表面镀镍膜改性的方法，属于粉末冶金技术领域。方法为：首先将碳纳米管放入气相沉积室，并通惰性气体置换气相沉积室的空气5min，然后加热升温沉积室温度至100℃～180℃；以惰性气体为载带气，将气化的四羰基镍载入气相沉积室，使四羰基镍在碳纳米管表面吸附并热分解为金属镍，保持2min～30min，即得到表面镀镍膜的碳纳米管。优点为采用四羰基镍为前驱体的金属有机化学气相沉积法，在碳纳米管表面沉积镍薄膜时，沉积温度低，沉积速率快，气态四羰基镍和载气流量可控，碳纳米管表面膜层均匀、致密，较液相法镀的镍膜纯度高、活性好、膜厚度可控，易于实现碳纳米管与金属基体之间的良好结合。

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摘要：一种制取镍箔的方法，涉及一种采用羰基法制取镍箔的方法。其特征在于其制备过程采用含镍的水淬合金为原料，在合成釜内与一氧化碳气体进行羰化反应制取羰基镍气体；再将制得羰基镍气体在分解器内进行分解，将分解的镍沉积在悬于分解器中部的基板上，经降温、出釜、剥离得到镍箔。本发明方法采用热分解方式制备镍箔，能控制成分，降低成本，不污染环境，制得的镍箔厚薄均匀。

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摘要：一种纯钨或钼薄壁器件的制备方法，属于粉末冶金技术领域。工艺步骤为：以紫铜材质制作所需器件的模板，其表面粗糙度Ra低于6.3并保持表面清洁干燥；将模板放入气相沉积室内，以六羰基钨或六羰基钼为反应有机源，高纯氢气或氮气为稀释气，在沉积室压力500～10000Pa、沉积温度280～420℃条件下在模板上进行热解离气相沉积，沉积过程中根据沉积壁厚要求每沉积2～4小时进行一次退火。沉积完成后，关闭有机源阀门，继续通入稀释气保持器件降至室温。将模板表面沉积钨或钼的器件采用硝酸腐蚀去除紫铜模板基体，得到壁厚0.1～3mm的纯钨或钼薄壁器件。优点在于，沉积温度低，沉积速度快，沉积膜纯度高，膜层致密，膜表面的光洁度好，加工流程短，无污染，无腐蚀。

一种采用羰基钨为前驱体制备用于聚变堆中面向等离子体钨涂层的方法-201110001204.3
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申请日： 2011-01-05 - 公布日： 2011-08-03 - 主分类号： C23C16/16
摘要：本发明提供了一种采用羰基钨为前驱体利用等离子增强的金属有机化学气相沉积的方法制备用于聚变堆中面向等离子体钨涂层的方法，沉积反应时，反应器夹壁始终通冷却水冷却且压力恒定在150-250Pa，基座温度控制在200-600℃。通入纯度为99.9％的羰基钨饱和蒸气，气流量控制在1.0-3.0ml/s，温度范围为70-140℃。沉积时间为5-12h，然后恒定保温3-6h进行热扩散退火。本发明方法可制备出与基体结合强度高的钨涂层，涂层厚度小于5mm且该涂层具有孔隙率低、纯度高、表面光滑等特点。该方法工艺相对简单、可靠性高并可制备出大面积的钨涂层，广泛应用到聚变堆实验装置及将来的聚变反应堆的第一壁上。

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通过原子层沉积形成含钌的膜的方法-200980120100.5
发明人： R·坎乔里亚;R·奥德德拉;J·安西斯;N·博格 -专利权人：西格玛-奥吉奇公司
申请日： 2009-05-29 - 公布日： 2011-06-01 - 主分类号： C23C16/16
摘要：提供了通过原子层沉积形成含钌的膜的方法。该方法包含将至少一种前体运送到基材，该至少一种前体对应于式I：(L)Ru(CO)3其中：L选自线型或支链的C2-C6烯基以及线型或支链的C1-6烷基；并且其中L任选地被一种或多种取代基取代，所述取代基独立地选自C2-C6烯基，C1-6烷基，烷氧基和NR1R2；其中R1和R2独立地是烷基或氢。

成膜方法和成膜装置-200880000148.8
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申请日： 2008-02-19 - 公布日： 2009-09-23 - 主分类号： C23C16/16
摘要：本发明涉及一种成膜方法，其通过向被处理基板的表面上供给羰基金属原料的气相分子，在所述被处理基板表面附近使其分解，而在所述被处理基板的表面上堆积金属膜，设置有在所述被处理基板表面堆积金属层时，使与所述被处理基板外周部分邻接的区域中的所述羰基金属原料优先分解的工序，使得在所述被处理基板外周部附近的气氛中CO浓度局部增大，抑制金属膜在所述外周部的堆积。

专利分类

C 化学；冶金

C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的

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[发明专利]载置台构造无效

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